[实用新型]扩散透镜及具有该扩散透镜的光发射模块有效

专利信息
申请号: 201621284228.9 申请日: 2016-11-25
公开(公告)号: CN206248861U 公开(公告)日: 2017-06-13
发明(设计)人: 赵成国 申请(专利权)人: 莫列斯有限公司
主分类号: G02B3/00 分类号: G02B3/00;G02F1/13357
代理公司: 隆天知识产权代理有限公司72003 代理人: 金鹏,周滨
地址: 美国伊*** 国省代码: 暂无信息
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 扩散 透镜 具有 发射 模块
【说明书】:

技术领域

本实用新型涉及一种光发射模块,且更具体而言涉及一种能使发射的光的亮度均匀的扩散透镜以及一种发射光的具有该扩散透镜的光发射模块。

背景技术

通常,在用于一背光或侧光的液晶显示屏的一光发射模块中,一光发射装置安装在一电路板上,且从光发射装置发射的光经由一透镜以一广角分散并发射出。使用这样的一透镜,通过均匀地分散由光发射装置发射的光,可以采用少量的光发射装置均匀地照射较大的区域。

最近,由于小型化的趋势,需要减小光发射模块的透镜的直径,且在光发射表面形成凸缘部以减小透镜直径。

然而,在现有技术中,当通过形成在透镜的背侧(下表面)上的向上倾斜的表面或平坦的表面扩散的光朝向凸缘部发射时,在凸缘部处出现亮度的不均匀(晕纹(mura)),且结果是存在亮度不均匀的问题。

现有技术文献

专利文献

(专利文献0001)韩国待审专利申请公开号KR10-2015-0082394(2015.07.15公开)

实用新型内容

技术问题

本实用新型的技术任务是提供一种光发射模块,所述光发射模块包括一扩散透镜,所述扩散透镜既可以减小透镜半径,又可以通过防止因透镜半径减小引起的亮度不均匀而使光的亮度均匀。

技术手段

为了实现所述任务,根据本实用新型的一个实施例的扩散透镜包括:一光入射部,其形成一内表面,从一光发射装置发射的光入射在所述内表面上;一光发射部,其形成一外表面,入射到所述光入射部上的光在所述外表面被发射出去,且所述光发射部设有一凸缘部,所述凸缘部在端部处破坏发射侧的曲率以减小透镜的直径;以及一背侧部,形成透镜的一下表面,所述下表面将所述光入射部和所述光发射部连接,且所述背侧部设有从所述光入射部向上倾斜形成的一第一斜面以及从所述第一斜面的端部向下倾斜形成的一第二斜面;由于由所述背侧部的第二斜面扩散的光补偿从所述凸缘部发射出的光,所以可使亮度均匀,以防止在所述凸缘部处出现不均匀性。

此外,所述第一斜面和所述第二斜面之间的拐点可形成在总透镜半径的80±10%处。

此外,所述第二斜面可相对于水平面以10°或更小的一向下倾斜角度形成。

此外,所述凸缘部可包括:一第一拐点,所述第一拐点在所述光发射部的端部处破坏所述发射表面的曲率;以及一第二拐点,沿所述发射表面以一定角度远离所述第一拐点形成以增加扩散角;且所述第一拐点和所述第二拐点可位于所述背侧部的其上形成有所述第二斜面的部分的竖直方向上。

此外,所述第一拐点和所述第二拐点之间的倾斜角可相对于竖直方向为5°或更小。

此外,根据本实用新型的一个实施例的光发射模块可包括:一电路板;一光发射装置,安装在所述电路板上;以及一扩散透镜,其控制从所述光发射装置发射的光,且所述扩散透镜安装在所述电路板上从而位于所述光发射装置的顶部。

技术效果

通过由从所述透镜的背侧部的向下倾斜表面扩散的光补偿由所述凸缘部发射的光而使亮度均匀,本实用新型能防止所述凸缘部上的亮度不均匀(晕纹)。

因此,本实用新型具有以下效果:通过借助所述背侧部的形状对光进行补偿而使亮度均匀,本实用新型可以防止当为减小透镜直径而破坏发射表面的曲率时在所述凸缘部的拐点处出现亮度不均匀(晕纹)。

附图说明

图1是示出根据本实用新型的一个实施例的光发射模块的一示意断面图。

图2是根据本实用新型的一个实施例的用于一光发射模块中的一扩散透镜的一立体图。

图3是根据本实用新型的一个实施例的用于一光发射模块中的一扩散透镜的一前视图。

图4是示出根据本实用新型的一个实施例的用于一光发射模块中的一扩散透镜的一示意断面图。

图5是图4的A部分的一放大图。

图6和图7是两个示意图,比较在形成于扩散透镜的背侧部上的向下倾斜表面处于不同倾斜角的情况下从发射部的凸缘部发射的光。

图8和图9是两个实验照片,比较在形成于扩散透镜的背侧部上的向下倾斜表面处于不同倾斜角的情况下在发射部的凸缘部处存在或不存在光的不均匀性(晕纹)。

图10是一曲线图,比较在形成于扩散透镜的背侧部上的向下倾斜表面处于不同倾斜角的情况下在发射部的凸缘部处出现光的不均匀性(晕纹)的区域。

具体实施方式

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于莫列斯有限公司,未经莫列斯有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201621284228.9/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top