[实用新型]消偏振分光片

说明书

技术领域

本实用新型涉及一种分光片，特别涉及一种消偏振分光片。

背景技术

分光片广泛应用于光电仪器、激光系统、光电显示系统和光存储等领域，通常情况下分光片常常倾斜使用，把入射光分束成反射光和透射光两部分。当光线斜入射到光学薄膜时，由于电场和磁场在每个界面上的切向分量均连续，因此S分量和P分量的有效折射率将不同，这使得薄膜不可避免地产生偏振效应，人们常利用这种特性来设计和制造偏振分光器等光学偏振器件。但在另一些光学系统应用中又希望能够消除偏振效应。

消偏振分光器件一般被设计成胶合棱镜的结构，即消偏振分光棱镜。通过对棱镜斜面镀膜并胶合配对棱镜的方案来实现，其加工工艺复杂、加工流程长、加工成本高、最终成品率低。

实用新型内容

本实用新型的目的在于克服以上缺点，提供一种消偏振分光片，该分光片不仅有效地降低了加工难度，减少加工成本，便于设计生产，而且膜层牢固度好、硬度强、吸收小，层数少、膜厚薄；其工作波段为530-570nm，透反比为50:50，S分量和P分量的差值小于3％。

本实用新型是这样实现的：一种消偏振分光片，其特征在于：该分光片由光学玻璃基底以及沉积在光学玻璃基底上的分光膜组成，所述分光膜由14层膜层组成，该14层膜层由高折射率介质材料TiO₂膜层和低折射率介质材料SiO₂膜层多次交替堆叠组成，该14层膜层从内至外依次为：第1层，TiO₂膜层，厚度为49.3-50.3nm；第2层，SiO₂膜层，厚度为84.2-85.9nm；第3层，TiO₂膜层，厚度为39.5-40.3nm；第4层，SiO₂膜层，厚度为67.0-68.3nm；第5层，TiO₂膜层，厚度为36.2-37.0nm；第6层，SiO₂膜层，厚度为77.3-78.9nm；第7层，TiO₂膜层，厚度为49.0-50.0nm；第8层，SiO₂膜层，厚度为101.1-103.2nm；第9层，TiO₂膜层，厚度为58.4-59.5nm；第10层，SiO₂膜层，厚度为114.4-116.7nm，第11层，TiO₂膜层，厚度为85.8-87.5nm；第12层，SiO₂膜层，厚度为196.8-200.8nm；第13层，TiO₂膜层，厚度为79.5-81.1nm；第14层，SiO₂膜层，厚度为154.6-157.7nm。

本实用新型的制造工艺包括：在真空镀膜机内，利用真空镀膜技术在光学玻璃基底上依次精确沉积规定厚度要求TiO2材料膜层和SiO2材料膜层，最终形成所述的14层分光膜。

优选地，所述14层膜层的厚度依次为：第1层，TiO₂膜层，厚度为49.8nm；第2层，SiO₂膜层，厚度为85.1nm；第3层，TiO₂膜层，厚度为39.9nm；第4层，SiO₂膜层，厚度为67.7nm；第5层，TiO₂膜层，厚度为36.6nm；第6层，SiO₂膜层，厚度为78.1nm；第7层，TiO₂膜层，厚度为49.5nm；第8层，SiO₂膜层，厚度为102.1nm；第9层，TiO₂膜层，厚度为59.0nm；第10层，SiO₂膜层，厚度为115.6nm，第11层，TiO₂膜层，厚度为86.6nm；第12层，SiO₂膜层，厚度为198.8nm；第13层，TiO₂膜层，厚度为80.3nm；第14层，SiO₂膜层，厚度为156.1nm。

优选地，所述光学玻璃基底的折射率为1.49-1.56。

优选地，所述光学玻璃基底采用K9或D263T或B270或BK7。

较之消偏振分光棱镜而言，本实用新型具有以下优点：

结构简单，只用光学玻璃平片镀常规的介质膜即可实现消偏振分光效果，无需进行棱镜三面加工、无需胶合固化，甚至无需在背面镀增透膜；便于设计层数少、厚度薄、消偏振效果明显的分光膜，同时容易制备生产成本低、稳定性优良、使用寿命较长的分光膜。