[实用新型]一种电子笔有效

专利信息
申请号: 201620950104.3 申请日: 2016-08-26
公开(公告)号: CN206162420U 公开(公告)日: 2017-05-10
发明(设计)人: 丁俊 申请(专利权)人: 上海芯什达电子技术有限公司
主分类号: G06F3/0354 分类号: G06F3/0354
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 200000 上海市浦东新区自由贸*** 国省代码: 上海;31
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 一种 电子
【说明书】:

技术领域

实用新型涉及一种在任意电容感应层或电磁感应层进行书写的装置,具体地,涉及一种电子笔。

背景技术

电子笔是指具有在任意电容感应层或电磁感应层进行书写能力的装置。基于该装置对被书写设备普适性的要求,需要能接收被书写设备的发射信号,经过电子笔装置中的信号处理单元处理后,驱动发射信号,让被书写设备感知到电子笔的位置信息,压力信息等其他相关信息。

为提高接收、发射信号的效率,需要将接收天线、发射天线尽可能的靠近被书写设备。在这种使用条件下,发射天线与接收天线之间结构上会靠的非常紧密。而信号通路中,接收天线又与发射天线之间会产生相互干扰问题。因此,为了获得更好的书写体验,笔头天线部分要经过特殊结构设计。

目前有两种电子笔笔头方案,一种是笔头只有发射天线,没有接收天线;另一种是接收天线和发射天线结构上间隔非常远。

针对第一种只有发射天线的电子笔装置,电子笔只发射信号,被书写设备只接收信号,需要电子笔与被书写设备一对一配对。这种一一配对的电子书写方式,对被书写设备本身增加了硬件和软件成本,使得电子笔不具有普遍适用意义。

针对第二种接收天线和发射天线结构上离的比较远的设计,只能满足接收天线或者发射天线一端靠近被书写设备的要求。因此,会造成接收天线或者发射天线效率损失的情况,而对于电子笔发射的小信号能量,天线接收或发射效率低下对产品实际体验感是致命的。

实用新型内容

为了解决上述技术问题,本实用新型一方面提供了一种电子笔所述电子笔一端设置笔头,所述笔头由接收天线、屏蔽层和发射天线组成,所述发射天线用于向被书写设备的发射信号,所述接收天线用于接收被书写设备表面发射的信号,所述屏蔽层设置于发射天线和接收天线之间,所述屏蔽层用于隔离发射天线、接收天线之间的信号。

作为一种优选的技术方案,所述笔头的结构为柱状三层嵌套结构,所述笔头由内之外包括接收天线、屏蔽层和发射天线。

作为一种优选的技术方案,所述接收天线为圆柱形,所述屏蔽层为中空圆柱形,所述圆柱形接收天线嵌套于所述中空圆柱形屏蔽层,所述发射天线为中空圆台,所述中空圆柱形屏蔽层嵌套于所述中空圆台形发射天线。

作为一种优选的技术方案,所述圆柱形接收天线下部凸出于所述中空圆柱形屏蔽层,所述圆柱形接收天线下部为所述电子笔的笔尖。

作为一种优选的技术方案,所述中空圆柱形屏蔽层下部凸出于所述中空圆台形发射天线。

所述接收天线、屏蔽层和发射天线均由金属材料制作而成。

作为一种优选的技术方案,所述接收层、屏蔽层和发射层之间设置绝缘保护层。

一种电子笔系统,所述电子笔系统包括电子笔和被书写设备;

所述电子笔一端设置笔头,所述笔头由接收天线、屏蔽层和发射天线组成,所述发射天线用于向被书写设备的发射信号,所述接收天线用于接收被书写设备表面发射的信号,所述屏蔽层设置于发射天线和接收天线之间,所述屏蔽层用于隔离发射天线、接收天线之间的信号;

所述被书写设备包括接收装置和发射装置,所述接收装置用于接收电子笔发射天线的发射信号,所述发射装置用于向电子笔接收天线发射信号。

通过笔头三层嵌套结构,可以将接收天线和发射天线同时尽可能靠近被书写表面,使天线效率达到最高,有利于电子笔书写使用体验感。同时,笔头收、发天线结构可以让电子笔在任意被书写体表面进行书写,具有普遍使用意义。

参考以下详细说明更易于理解本申请的上述以及其他特征、方面和优点。

附图说明

图1为电子笔的示意图。

图2为笔头的剖面示意图。

其中,附图标记如下所示:

接收天线1

屏蔽层2

发射天线3

笔头10。

具体实施方式

为使本实用新型实施例的目的、技术方案和优点更加清楚,下面将结合本实用新型实施例的附图,对本实用新型实施例的技术方案进行清楚、完整地描述。显然,所描述的实施例是本实用新型的一部分实施例,而不是全部的实施例。基于所描述的本实用新型的实施例,本领域普通技术人员在无需创造性劳动的前提下所获得的所有其它实施例,都属于本实用新型保护的范围。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于上海芯什达电子技术有限公司,未经上海芯什达电子技术有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201620950104.3/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top