[实用新型]用层堆叠涂布柔性基板的沉积设备有效

专利信息
申请号: 201620800779.X 申请日: 2016-07-27
公开(公告)号: CN206204411U 公开(公告)日: 2017-05-31
发明(设计)人: T·德皮施;S·海因;N·莫里森;R·库克拉;C·克森;S·施拉弗;S·劳伦斯;D·瓦格纳;V·迈特;V·哈克;U·赫尔曼斯;B·斯狄克赛尔-维斯;W·温丹姆斯;J·乌尔里奇 申请(专利权)人: 应用材料公司
主分类号: C23C14/56 分类号: C23C14/56;C23C14/34;C23C14/58
代理公司: 上海专利商标事务所有限公司31100 代理人: 侯颖媖
地址: 美国加利*** 国省代码: 暂无信息
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 堆叠 柔性 沉积 设备
【说明书】:

技术领域

本公开的实施例涉及薄膜沉积设备,特别涉及用薄层堆叠涂布柔性基板的设备,特别是在卷对卷(R2R)沉积系统中。一些实施例涉及用层堆叠分别涂布柔性基板的一个或两个主表面的设备,诸如用于薄膜太阳电池生产、薄膜电池生产和柔性显示器生产。

背景技术

对柔性基板(诸如,塑料薄膜或箔片)的处理在包装工业、半导体工业和其他工业中需求很高。处理可包括用材料(诸如,金属、半导体和介电材料)涂布柔性基板、蚀刻和出于个别应用对基板实施的其他处理动作。执行这一任务的系统一般包括涂布滚筒(例如,圆柱形辊),将涂布滚筒耦接到具有用于传送基板的辊组件的处理系统,并且在涂布滚筒上涂布基板的至少一部分。卷对卷(R2R)涂布系统可提供高产量。

因此,涂布工艺(诸如,CVD工艺或PVD工艺),特别是溅射工艺,可用于将薄层沉积在柔性基板上。应将卷对卷沉积系统理解为,从存储卷筒对相当长长度(诸如,一千米或以上)的柔性基板解除卷绕,用薄层堆叠涂布柔性基板,并将柔性基板再次重新卷绕在缠绕卷筒上。在薄膜电池的制造中以及在显示器工业和光伏(PV)工业中,对卷对卷沉积系统的需求也在增加。例如,触控面板元件、柔性显示器和柔性PV模块导致对在R2R涂布机中沉积适宜层的需求增加。

在一些应用中,可在柔性基板的第一主表面上沉积具有两个或更多个层的层堆叠。有时,可在柔性基板的与第一主表面相对的第二主表面上沉积第二层堆叠。当在两侧上涂布基板时,应谨慎设计和操作涂布滚筒以避免在第二主表面的涂布期间损坏基板的第一已涂布表面。

鉴于上文,提供用层堆叠涂布柔性基板的一个或两个主表面的沉积设备,其中所述层具有高均匀性和每单位表面积的低缺陷数目,从而克服了本技术领域中的至少一些问题。

实用新型内容

根据上文,提供一种根据独立权利要求的用于涂布柔性基板的沉积设备。进一步方面、优点和特征将从从属权利要求、说明书和附图中显而易见。

根据本文描述的实施例,提供一种用于涂布柔性基板的沉积设备。所述沉积设备包括:第一卷筒腔室,配置用于容纳存储卷筒,所述存储卷筒用于提供柔性基板;第一沉积腔室,布置在第一卷筒腔室下游且包括第一涂布滚筒,所述第一涂布滚筒被配置用于引导柔性基板经过第一组多个沉积单元;第二沉积腔室,布置在第一沉积腔室下游且包括第二涂布滚筒,所述第二涂布滚筒被配置用于引导柔性基板经过第二组多个沉积单元;第二卷筒腔室,布置在第二沉积腔室下游且被配置用于容纳缠绕卷筒,所述缠绕卷筒用于在沉积后在此缠绕卷筒上缠绕柔性基板;以及辊组件,配置成将柔性基板沿部分凸形和部分凹形的基板传送路径从第一卷筒腔室传送到第二卷筒腔室。

本文描述的沉积设备可用于用层堆叠涂布柔性基板的方法中,其中将柔性基板沿部分凸形和部分凹形的基板传送路径从第一卷筒腔室传送到第二卷筒腔室。所述方法包括:从提供在第一卷筒腔室中的存储卷筒退绕柔性基板;在柔性基板的第一主表面上沉积层堆叠的至少一个第一层,同时由提供在第一沉积腔室中的第一涂布滚筒引导柔性基板;在至少一个第一层上沉积层堆叠的至少一个第二层,同时由提供在第二沉积腔室中的第二涂布滚筒引导柔性基板;以及在沉积后在提供在第二卷筒腔室中的缠绕卷筒上缠绕柔性基板。

描述一种对准沉积设备的方法,其中所述沉积设备包含辊组件,所述辊组件配置成将柔性基板沿部分凸形和部分凹形的基板传送路径从第一卷筒腔室传送到第二卷筒腔室。所述方法包括:将辊组件的至少一个导辊定义为参考辊;以及相对于参考辊的第一旋转轴对准辊组件的两个或更多个剩余导辊的旋转轴,以便平行于参考辊的第一旋转轴延伸。

实施例还涉及到用于执行每个所公开方法,并且包括用于执行每个所描述方法特征的设备部分的设备。可通过硬件部件、由适宜软件编程的计算机、通过上述两个的任何组合或以任何其他方式执行方法特征。

附图说明

实施例的上文指出的和其他更详细的方面中的一些将在以下描述中加以描述,并且参照附图进行部分说明。

图1示出了根据本文描述的实施例的沉积设备的剖面示意图;

图2示出了根据本文描述的实施例的沉积设备的剖面示意图;

图3示出了根据本文描述的实施例的沉积设备的剖面示意图;

图4示出了根据本文描述的实施例的沉积设备的剖面示意图;

图5示出了根据本文描述的实施例的沉积设备的更详细剖视图;

图6示出了可用于本文描述的一些实施例中的可加热辊的示意图;

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