[实用新型]回转体抛光生产线的底面抛光装置有效

专利信息
申请号: 201620521301.3 申请日: 2016-05-31
公开(公告)号: CN206216457U 公开(公告)日: 2017-06-06
发明(设计)人: 黄建青 申请(专利权)人: 浙江克劳德智能设备有限公司
主分类号: B24B29/02 分类号: B24B29/02;B24B27/00;B24B55/04;B24B55/06;B24B41/00;B24B41/02;B24B41/06;B24B47/04
代理公司: 杭州丰禾专利事务所有限公司33214 代理人: 王晓峰
地址: 312319 浙江省*** 国省代码: 浙江;33
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摘要:
搜索关键词: 回转 抛光 生产线 底面 装置
【说明书】:

技术领域

实用新型属于抛光机械技术领域,尤其涉及回转体抛光生产线的底面抛光装置。

背景技术

回转体,在一个物体的两端假设两个点,而两点连成一线穿过物体,物体以此线为旋转中心,在旋转时它的每个部分旋转到固定一个位置时都是一样的形状,此为标准回转体。它的特点是中心线的两边为对称,所以一般回转体基本都是对称的。

生活中有很多的用具都是回转体,例如电饭锅内胆。当这些回转体工具被加工出来后,其表面通常都很粗糙,需要对表面进行抛光作业。传统的方式是通过人工采用抛光器械对回转体表面进行抛光,但是这种抛光方式效率低、人工成本高昂。

实用新型内容

为了解决上述的技术问题,本实用新型的目的是提供一种抛光效率高、人工成本低,针对回转体工件弧面面进行抛光线作业的底面面抛光装置。

为了实现上述的目的,本实用新型采用了以下的技术方案:

回转体抛光生产线的底面抛光装置,包括用于固定回转体工件的定位机构以及用于抛光回转体工件底面的底面抛光机;所述底面抛光机包括机架,所述机架下端设置有用于调节抛光深度的水平调节机构,机架上设置有抛光轮、抛光机头以及抛光电机,所述抛光轮通过抛光机头和抛光电机控制连接,在抛光轮上设置有磨砂纸;所述机架上还设置有用于控制抛光机头、抛光轮升降的垂直升降机构;所述定位机构包括定位头,所述定位头下端连接有转动连接件,所述转动连接件连接有转动主轴,所述转动主轴与转动电机连接,转动电机控制转动主轴转动,从而通过转动连接件带动定位头转动;所述定位头由三个结构大小相同的定位块构成,所述三块定位块之间间隙配合;所述定位块的外侧呈弧形,三个定位块配合形成一个呈三阶圆台形状的定位头。

作为优选,所述水平调节机构包括滑台、丝杆以及丝杆电机,滑台设置在丝杆上,丝杆与丝杆电机控制连接。

作为优选,在机架的下端还设置有与丝杆平行的导向滑轨,滑台沿丝杆和导向滑轨来回移动。

作为优选,所述抛光轮的外侧还设置有防护罩。

与现有技术相比,本实用新型的有益效果是:抛光效率高、人工成本低,针对回转体工件底面进行抛光线作业;抛光轮的外侧还设置有防护罩有效保护员工安全,且降低环境污染。

附图说明

图1是抛光生产线的总体布局示意图。

图2是移位机构的侧视图。

图3是移位机构的俯视图。

图4是推转机构的结构示意图。

图5是推转机构的结构简图。

图6是底面抛光机的工作示意图。

图7是图6的俯视图。

图8是弧面抛光机的工作示意图。

图9是图8的俯视图。

图10是侧面抛光机的工作示意图。

图11是图10的俯视图。

具体实施方式

下面结合附图对本实用新型的具体实施方式做一个详细的说明。

实施例1:

如图1~图11所示的一种回转体工件的抛光生产线,包括沿流水线设置的工作台1,在工作台1上间隔均匀地设置有多个用于固定回转体工件25的定位机构2。工作台1的一侧设置有用于对回转体工件25进行抛光作业的抛光机构3,在工作台1的另一侧设置有用于对回转体工件25进行移位操作的移位机构4,随着抛光进度的进行,移位机构4将回转体工件25从流水线起始端的定位机构2上依次移位至下一阶段的定位机构2上直至流水线末端为止。

定位机构2包括定位头16、转动连接件17、转动主轴18以及转动电机19。转动连接件17的上端连接定位头16,转动连接件17的下端连接转动主轴18,

转动主轴18通过轴承与转动电机19的输出轴连接。转动电机19设置在工作台1的下方,转动电机的输出轴穿过工作台1与转动主轴18通过轴承连接。转动电机19控制转动主轴18转动,从而通过转动连接件17带动定位头16转动。定位头16由三个结构大小相同的定位块20构成,三块定位块20之间间隙配合。定位块20的外侧呈弧形,三个定位块20配合形成一个呈三阶圆台形状的定位头16。不同尺寸的回转体工件25可以适用,即下端与不同的阶梯面接触,从而得以固定,固定完之后。

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