[实用新型]回转体抛光生产线的底面抛光装置

权利要求书

1.回转体抛光生产线的底面抛光装置，其特征在于：包括用于固定回转体工件的定位机构以及用于抛光回转体工件底面的底面抛光机；所述底面抛光机包括机架，所述机架下端设置有用于调节抛光深度的水平调节机构，机架上设置有抛光轮、抛光机头以及抛光电机，所述抛光轮通过抛光机头和抛光电机控制连接，在抛光轮上设置有磨砂纸；所述机架上还设置有用于控制抛光机头、抛光轮升降的垂直升降机构；所述定位机构包括定位头，所述定位头下端连接有转动连接件，所述转动连接件连接有转动主轴，所述转动主轴与转动电机连接，转动电机控制转动主轴转动，从而通过转动连接件带动定位头转动；所述定位头由三个结构大小相同的定位块构成，所述三块定位块之间间隙配合；所述定位块的外侧呈弧形，三个定位块配合形成一个呈三阶圆台形状的定位头。

2.根据权利要求1所述的回转体抛光生产线的底面抛光装置，其特征在于：所述水平调节机构包括滑台、丝杆以及丝杆电机，滑台设置在丝杆上，丝杆与丝杆电机控制连接。

3.根据权利要求2所述的回转体抛光生产线的底面抛光装置，其特征在于：在机架的下端还设置有与丝杆平行的导向滑轨，滑台沿丝杆和导向滑轨来回移动。

4.根据权利要求1所述的回转体抛光生产线的底面抛光装置，其特征在于：所述抛光轮的外侧还设置有防护罩。