[实用新型]耐磨损的金属齿条有效
| 申请号: | 201620102893.5 | 申请日: | 2016-02-01 |
| 公开(公告)号: | CN205315658U | 公开(公告)日: | 2016-06-15 |
| 发明(设计)人: | 周莉;倪元敏;侯道娟;赵茜;刘爽;游晓畅 | 申请(专利权)人: | 重庆工业职业技术学院 |
| 主分类号: | F16H55/26 | 分类号: | F16H55/26;F16H55/06 |
| 代理公司: | 北京海虹嘉诚知识产权代理有限公司 11129 | 代理人: | 谢殿武 |
| 地址: | 401120 重庆市*** | 国省代码: | 重庆;85 |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 耐磨 金属 齿条 | ||
技术领域
本实用新型涉及一种齿条,特别涉及一种耐磨损的金属齿条。
背景技术
齿条在机械领域并不陌生,其可以实现回转运动和直线运动之间的转换, 精度和耐磨度是衡量齿条的重要标准。齿条的连接使用专用工具,通过齿条的 齿轮将前段齿条的位置精度准确传递至下一段齿条上面,现有的齿条大多采用 铸件,铸件齿条容易磨损,强度低,使用寿命短,增加使用成本。
因此,就需要一种耐磨损的金属齿条,具有较强的抗摩损能力,有效降低 磨损状况,延长其使用寿命,降低使用成本。
实用新型内容
有鉴于此,本实用新型的目的在于提供一种耐磨损的金属齿条,具有较强 的抗摩损能力,有效降低磨损状况,延长其使用寿命,降低使用成本。
本实用新型的耐磨损的金属齿条,包括齿条本体及设于齿条本体的齿牙, 所述齿条本体和齿牙均采用金属材料制成,所述齿条本体和齿牙的表面均设有 耐磨层组,所述耐磨层组由从内往外依次设置的基础层、中间层和加强层组成; 所述基础层为碳化钨层,所述中间层为镍层,所述加强层为氮化硼层。
进一步,所述基础层的厚度为4.5μm-6.0μm。
进一步,所述中间层的厚度为3.6μm-4.2μm。
进一步,所述氮化硼层的厚度为5.0μm-7.0μm。
进一步,所述齿条本体的形状为长方体,所述齿牙位于所述齿条本体长方 体顶平面的上端,每一个齿牙相互之间连接且成条形排列。
进一步,所述齿条本体的上设有安装孔,所述安装孔位于齿条本体的长方 体侧面且横向穿过齿条本体。
本实用新型的有益效果:本实用新型的耐磨损的金属齿条,齿条本体和齿 牙的表面均设有耐磨层组,使得本实用新型具有较强的抗摩损能力,有效降低 磨损状况,延长其使用寿命,降低使用成本;耐磨层组中,基础层能够阻止齿 条表面金属渗透到中间层和加强层中,中间层能够使加强层有效沉积,加强层 耐磨、耐腐蚀、不易脱落、环保,抗磨性能佳。
附图说明
下面结合附图和实施例对本实用新型作进一步描述:
图1为本实用新型的结构示意图;
图2为本实用新型的耐磨层组的结构示意图。
具体实施方式
如图1和图2所示:本实施例的耐磨损的金属齿条,包括齿条本体1及设 于齿条本体1的齿牙2,所述齿条本体1和齿牙2均采用金属材料制成,所述齿 条本体1和齿牙2的表面均设有耐磨层组,所述耐磨层组由从内往外依次设置 的基础层31、中间层32和加强层33组成;所述基础层31为碳化钨层,所述中 间层32为镍层,所述加强层33为氮化硼层;基础层31、中间层32及加强层 33可根据具体情况采用物理气相沉积(PVD)法、化学气相沉积(CVD)法以及 它们的组合及变异方法进行涂覆;齿条本体1和齿牙2可采用高强度合金钢材 料制成;其中,基础层31的厚度可为4.5μm-6.0μm,中间层32的厚度可为 3.6μm-4.2μm,氮化硼层的厚度可为5.0μm-7.0μm,能够在实现耐磨的同时 节省原料,提高加工效率;齿条本体1和齿牙2的表面均设有耐磨层组,使得 本齿条具有较强的抗摩损能力,有效降低磨损状况,延长其使用寿命,降低使 用成本;耐磨层组中,基础层31能够阻止齿条表面金属渗透到中间层32和加 强层33中,中间层32能够使加强层33有效沉积,加强层33耐磨、耐腐蚀、 不易脱落、环保,抗磨性能佳。
本实施例中,所述齿条本体1具有厚度且形状为长方体,所述齿牙2位于 所述齿条本体1长方体顶平面的上端,每一个齿牙2相互之间连接且成条形排 列;齿牙2为直齿结构,其数量可为15-30个;所述齿条本体1的上设有安装 孔4,所述安装孔4位于齿条本体1的长方体侧面且横向穿过齿条本体1;安装 孔4为圆孔结构,包含有第一端部圆形孔、第二端部圆形孔和多个中部圆形孔, 第一端部圆形孔和第二端部圆形孔分别设置为3个,且每端的3个呈线型排列, 中部圆形孔呈波浪形排列,使得本齿条在与齿轮配合工作的同时能够增强齿条 的精度。
最后说明的是,以上实施例仅用以说明本实用新型的技术方案而非限制, 尽管参照较佳实施例对本实用新型进行了详细说明,本领域的普通技术人员应 当理解,可以对本实用新型的技术方案进行修改或者等同替换,而不脱离本实 用新型技术方案的宗旨和范围,其均应涵盖在本实用新型的权利要求范围当中。
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