[实用新型]具彩色光阻图案的装置有效
申请号: | 201620054462.6 | 申请日: | 2016-01-20 |
公开(公告)号: | CN206133182U | 公开(公告)日: | 2017-04-26 |
发明(设计)人: | 许铭案;林文福 | 申请(专利权)人: | 许铭案;林文福 |
主分类号: | G03F1/60 | 分类号: | G03F1/60;G03F1/76;G03F7/00;G03F7/20;G09F9/30 |
代理公司: | 北京汇泽知识产权代理有限公司11228 | 代理人: | 张秋越 |
地址: | 中国台湾苗栗*** | 国省代码: | 台湾;71 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 彩色 图案 装置 | ||
技术领域
本实用新型关于一种彩色光阻,特别关于一种具彩色光阻图案的装置。
背景技术
目前,智能型装置如智能型手机、智能型手表、智能型医疗器材等,都搭配有大荧幕让使用者观看荧幕上的信息。这些具有大荧幕的装置,除了功能强大外,逐渐都走向个性化、美观的造型设计,包括外观、形状、色彩等。这些都必须通过令人激赏的外壳设计与制造来实现。而目前,曲面化的外壳造型,特别吸引人,也逐渐成为智能型装置的未来潮流。
目前,对于智能型装置的曲面化外壳的图案制作,有以下几种工法:第一种公法:转印技术。通过预先制作的平面图样,再转印到目标的曲面。此种工法的加工成本低,但加工速度慢、材料成本高,且线路分辨率差。第二种工法:喷墨+激光雕刻。通过喷墨方法将颜料喷至目标的曲面,再通过激光雕刻的方式将图案刻出。此种工法加工成本高且加工速度慢,设备成本也很高,材料成本也高,优点是,线路分辨率高,可达20μm(微米)。
当然,可以制作曲面化外壳的技术,也可以用在平面化外壳。不过,平面化外壳的图案制作技术又更多了,例如网印,其线路分辨率也很低。
因此,如何能开发出同时具备加工成本低、加工速度快、材料成本低、线路分辨率高的多重优点,并且,可同时在平面外壳、曲面外壳、立体外壳上制作出彩色图案的方法,成为智能型装置厂商所希求的发展方向。
实用新型内容
为了解决上述技术问题,本实用新型提供一种具彩色光阻图案的装置,包含:
一基材;及
至少两层彩色光阻层,形成于该基材上;
其中,该至少两层彩色光阻层共同构成一图案,该图案可视,该基材为一平面型基材或一立体型基材。
作为优选技术方案,于该图案的边界处,该至少两层彩色光阻层构成一斜坡且每层彩色光阻层均与该基材相连接。
作为优选技术方案,该彩色光阻层的厚度介于0.5-30微米之间。
作为优选技术方案,该图案的线宽大于10微米。
作为优选技术方案,该至少两层彩色光阻层的最上层为一透明层。
作为优选技术方案,硬化后的该至少两层彩色光阻层的硬度介于2H-4H。
作为优选技术方案,该基材为一玻璃基材、一塑料基材或一陶瓷基材。
本实用新型提供的具彩色光阻图案的装置,可解决传统技术的加工速度慢、材料成本高、无法兼具线路分辨率高的状况,达到加工成本低、加速速度快、材料成本低、线路分辨率高等综合技术功效。
附图说明
图1A是本实用新型的彩色光阻图案的制作方法流程图的一实施例。
图1B是本实用新型的彩色光阻图案的制作方法流程图的又一实施例。
图2为运用本实用新型的形成彩色光阻图案的方法所制作的手机基材上视图。
图3A-3G是本实用新型的彩色光阻图案的制作流程的实体制作流程的一具体实施例示意图。
图4A-4G,是本实用新型的彩色光阻图案的制作流程的实体制作流程的另一具体实施例示意图。
附图标记说明:
10、10-1 基材;
21、22、23 彩色光阻层;
211、221、231 未曝光彩色光阻层;
212、222、232 已曝光彩色光阻层;
30、30-1 光罩;
31 图案部;
32 非图案部;
40 紫外光。
步骤101:依序形成至少两层彩色光阻层之一彩色光阻复合层于一基材上。
步骤102:依序形成至少两层彩色光阻层之一彩色光阻复合层于一基材上,每次形成一层彩色光阻层后进行预热,再形成下一层彩色光阻层。
步骤103:预热该彩色光阻复合层。
步骤105:以一光罩进行曝光程序,该光罩具有预定之一图案。
步骤107:移除非该图案之彩色光阻复合层的部分,以构成一彩色光阻图案。
步骤109:硬化该彩色光阻复合层。
具体实施方式
下面结合附图和具体实施例对本实用新型作进一步说明,以使本领域的技术人员可以更好的理解本实用新型并能予以实施,但所举实施例不作为对本实用新型的限定。
根据本实用新型的实施例,本实用新型提供了一个具彩色光阻图案的装置及其制作方法,运用形成多层彩色光阻,再进行一次曝光的方式,来制作出高分辨率、低成本、高产能、能制作于平面或曲面的壳体图案。
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G03F 图纹面的照相制版工艺,例如,印刷工艺、半导体器件的加工工艺;其所用材料;其所用原版;其所用专用设备
G03F1-00 用于图纹面的照相制版的原版,例如掩膜,光掩膜;其所用空白掩膜或其所用薄膜;其专门适用于此的容器;其制备
G03F1-20 .用于通过带电粒子束(CPB)辐照成像的掩膜或空白掩膜,例如通过电子束;其制备
G03F1-22 .用于通过100nm或更短波长辐照成像的掩膜或空白掩膜,例如 X射线掩膜、深紫外
G03F1-26 .相移掩膜[PSM];PSM空白;其制备
G03F1-36 .具有临近校正特征的掩膜;其制备,例如光学临近校正(OPC)设计工艺
G03F1-38 .具有辅助特征的掩膜,例如用于校准或测试的特殊涂层或标记;其制备