[实用新型]具彩色光阻图案的装置有效
| 申请号： | 201620054462.6 | 申请日： | 2016-01-20 |
| 公开（公告）号： | CN206133182U | 公开（公告）日： | 2017-04-26 |
| 发明（设计）人： | 许铭案;林文福 | 申请（专利权）人： | 许铭案;林文福 |
| 主分类号： | G03F1/60 | 分类号： | G03F1/60;G03F1/76;G03F7/00;G03F7/20;G09F9/30 |
| 代理公司： | 北京汇泽知识产权代理有限公司11228 | 代理人： | 张秋越 |
| 地址： | 中国台湾苗栗*** | 国省代码： | 台湾;71 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 彩色 图案 装置 | ||
【权利要求书】：
1.一种具彩色光阻图案的装置，其特征在于，包含：
一基材；及
至少两层彩色光阻层，形成于该基材上；
其中，该至少两层彩色光阻层共同构成一图案，该图案可视，该基材为一平面型基材或一立体型基材。
2.如权利要求1的具彩色光阻图案的装置，其特征在于，于该图案的边界处，该至少两层彩色光阻层构成一斜坡且每层彩色光阻层均与该基材相连接。
3.如权利要求1或2的具彩色光阻图案的装置，其特征在于，该彩色光阻层的厚度介于0.5-30微米之间。
4.如权利要求1或2的具彩色光阻图案的装置，其特征在于，该图案的线宽大于10微米。
5.如权利要求1或2的具彩色光阻图案的装置，其特征在于，该至少两层彩色光阻层的最上层为一透明层。
6.如权利要求1或2的具彩色光阻图案的装置，其特征在于，硬化后的该至少两层彩色光阻层的硬度介于2H-4H。
7.如权利要求1或2的具彩色光阻图案的装置，其特征在于，该基材为一玻璃基材、一塑料基材或一陶瓷基材。
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G03 摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术
G03F 图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备
G03F1-00 用于图纹面的照相制版的原版，例如掩膜，光掩膜；其所用空白掩膜或其所用薄膜；其专门适用于此的容器；其制备
G03F1-20 .用于通过带电粒子束(CPB)辐照成像的掩膜或空白掩膜，例如通过电子束；其制备
G03F1-22 .用于通过100nm或更短波长辐照成像的掩膜或空白掩膜，例如 X射线掩膜、深紫外
G03F1-26 .相移掩膜[PSM]；PSM空白；其制备
G03F1-36 .具有临近校正特征的掩膜；其制备，例如光学临近校正(OPC)设计工艺
G03F1-38 .具有辅助特征的掩膜，例如用于校准或测试的特殊涂层或标记；其制备
G03F 图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备
G03F1-00 用于图纹面的照相制版的原版，例如掩膜，光掩膜；其所用空白掩膜或其所用薄膜；其专门适用于此的容器；其制备
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