[发明专利]基于三个或更多个状态的功率和频率的调节

权利要求书

1.一种等离子体处理系统，其被配置用于使用多个状态的操作，所述等离子体系统包括：

主射频(RF)产生器，其用于接收脉冲信号，所述脉冲信号具有三个或更多个状态，所述三个或更多个状态包括第一状态、第二状态和第三状态，所述主射频产生器经由阻抗匹配电路耦合到等离子体室，

从射频产生器，其用于接收所述脉冲信号，所述从射频产生器经由所述阻抗匹配电路耦合到所述等离子体室，

所述主射频产生器和所述从射频产生器中的每个被配置为判定所述脉冲信号是否处于所述第一状态或所述第二状态或所述第三状态，

所述主射频产生器被配置为响应于所述脉冲信号处于所述第一状态的判定将具有第一主量化电平的第一射频信号提供给所述阻抗匹配电路，

所述从射频产生器被配置为响应于所述脉冲信号处于所述第一状态的判定将具有第一从量化电平的第二射频信号提供给所述阻抗匹配电路，

所述主射频产生器被配置为响应于所述脉冲信号处于所述第二状态的判定将具有第二主量化电平的所述第一射频信号提供给所述阻抗匹配电路，

所述从射频产生器被配置为响应于所述脉冲信号处于所述第二状态的判定将具有第二从量化电平的所述第二射频信号提供给所述阻抗匹配电路，

所述主射频产生器被配置为响应于所述脉冲信号处于所述第三状态的判定将具有第三主量化电平的所述第一射频信号提供给所述阻抗匹配电路，

所述从射频产生器被配置为响应于所述脉冲信号处于所述第三状态的判定将具有第三从量化电平的所述第二射频信号提供给所述阻抗匹配电路。

2.根据权利要求1所述的等离子体处理系统，其中，所述第一状态在与所述第二状态的发生的时间段相等的时间段期间发生。

3.根据权利要求1所述的等离子体处理系统，其中，所述第一状态在与所述第二状态的发生的时间段不相等的时间段期间发生。

4.根据权利要求1所述的等离子体处理系统，其中，所述第二状态在与所述第三状态的发生的时间段相等的时间段期间发生。

5.根据权利要求1所述的等离子体处理系统，其中，所述第二状态在与所述第三状态的发生的时间段不相等的时间段期间发生。

6.根据权利要求1所述的等离子体处理系统，其中，所述第一主量化电平、所述第二主量化电平、所述第三主量化电平、所述第一从量化电平、所述第二从量化电平和所述第三从量化电平中的每个是功率电平。

7.根据权利要求1所述的等离子体处理系统，其中，所述第一主量化电平、所述第二主量化电平、所述第三主量化电平、所述第一从量化电平、所述第二从量化电平和所述第三从量化电平中的每个是频率电平。

8.一种等离子体处理系统，其配置成根据多个状态来操作，所述等离子体系统包括：

主射频(RF)产生器，其用于接收脉冲信号，所述脉冲信号具有三个或更多个状态，所述三个或更多个状态包括第一状态、第二状态和第三状态，

所述主射频产生器经由阻抗匹配电路耦合到等离子体室，所述主射频产生器用于判定所述脉冲信号是否处于所述第一状态或所述第二状态或所述第三状态，

所述主射频产生器被配置为响应于所述脉冲信号处于所述第一状态的判定将具有第一主量化电平的第一射频信号提供给所述阻抗匹配电路，

所述主射频产生器被配置为响应于所述脉冲信号处于所述第二状态的判定将具有第二主量化电平的所述第一射频信号提供给所述阻抗匹配电路，

所述主射频产生器被配置为响应于所述脉冲信号处于所述第三状态的判定将具有第三主量化电平的所述第一射频信号提供给所述等离子体室，

从射频产生器，其经由所述阻抗匹配电路耦合到所述等离子体室，所述从射频产生器用于判定与所述等离子体相关联的参数是否超过第一阈值，

所述从射频产生器被配置为响应于与所述等离子体相关联的所述参数不超过所述第一阈值的判定提供具有第一从量化电平的第二射频信号，

所述从射频产生器被配置为响应于与所述等离子体相关联的所述参数超过所述第一阈值的判定提供具有第二从量化电平的所述第二射频信号。