[发明专利]量子点发光层图案化的方法、量子点彩膜及显示装置

权利要求书

1.一种量子点发光层图案化的方法，其特征在于，包括步骤：

在基板上排布功能量子点，形成量子点层；

对所述量子点层进行曝光显影，在所述基板上获得图案化的量子点发光层；

其中，所述功能量子点是由感光基团包覆量子点而形成；

所述感光基团具有如式(1)所示的化学式：

其中，所述R₁选自R₂-(CH₂)_n-SO₂-、R₂-(CH₂)_n-CO-、R₂-(CH₂)_n-中的任意一种；所述R₂选自NH₂-、SH-、PH₂-、O＝PH₂-、SH-CH₂CH₂-NH-中的任意一种；所述n的取值范围为7≤n≤18。

2.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述量子点选自Au量子点、CdSe量子点、InP量子点、CdTe量子点中的任意一种。

3.根据权利要求2所述的方法，其特征在于，对所述量子点层进行曝光显影之前，还包括步骤：

将掩膜版设置在所述量子点层上方；其中，所述掩膜版具有与所述图案化的量子点发光层的形状相匹配的通孔。

4.根据权利要求3所述的方法，其特征在于，对所述量子点层进行曝光显影的具体步骤包括：

对所述量子点层进行曝光，所述通孔对应位置处的功能量子点发生wolff重排反应，变为变性量子点；

将剩余的所述功能量子点及所述变性量子点与显影液接触，所述变性量子点溶于所述显影液，在所述基板上获得所述图案化的量子点发光层。

5.一种量子点彩膜，其特征在于，包括如权利要求1-4任一所述的量子点发光层图案化的方法制备得到的量子点发光层。

6.一种显示装置，其特征在于，包括如权利要求5所述的量子点彩膜。