[发明专利]近高斯分布半导体侧面泵浦板条激光器在审
申请号: | 201611184258.7 | 申请日: | 2016-12-20 |
公开(公告)号: | CN108376905A | 公开(公告)日: | 2018-08-07 |
发明(设计)人: | 王学军 | 申请(专利权)人: | 中国航空制造技术研究院 |
主分类号: | H01S5/024 | 分类号: | H01S5/024;H01S5/22 |
代理公司: | 暂无信息 | 代理人: | 暂无信息 |
地址: | 100024 北*** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 激光介质 整形 高斯分布 泵浦光 透镜 板条激光器 泵浦模块 侧面泵浦 纵向分布 耦合装置 激光器 泵浦源 谐振腔 液冷腔 泵浦 慢轴 竖直 半导体 匹配 半导体激光器 微透镜阵列 泵浦方向 分布耦合 光强分布 互相垂直 整形透镜 纵向压缩 浸没 板条状 平行光 水平泵 板条 后泵 基模 快轴 侧面 发射 焦点 | ||
1.一种近高斯分布半导体侧面泵浦板条激光器,其特征在于,包括谐振腔和设置在所述谐振腔中的一组泵浦方向互相垂直的泵浦模块;
所述泵浦模块包括半导体激光器泵浦源,耦合装置,液冷腔和长方体状的板条激光介质;所述激光介质置于所述液冷腔中;所述耦合装置包括一组快轴整形透镜和一组慢轴整形透镜;激光器的光轴贯穿所述激光介质的两个振荡激光通光面;每个泵浦模块的泵浦方向均垂直于激光器的光轴方向;
所述半导体激光器泵浦源具有在快轴与慢轴方向的微透镜阵列整形装置;所述半导体激光器泵浦源的快轴方向平行于激光器光轴方向,慢轴方向垂直于激光器光轴方向。
2.根据权利要求1所述的近高斯分布半导体侧面泵浦板条激光器,其特征在于,所述快轴整形透镜包括在泵浦方向上依次设置的并且直母线垂直于快轴方向的快轴柱面凸透镜和快轴柱面凹透镜,所述慢轴整形透镜包括在泵浦方向上设置的、直母线垂直于慢轴方向的、并且在所述快轴柱面凸透镜和快轴柱面凹透镜之间且靠近快轴柱面凸透镜一侧的慢轴柱面凸透镜。
3.根据权利要求2所述的装置,其特征在于,所述快轴整形透镜将快轴方向发散的泵浦光压缩为近矩形分布,并与板条激光介质的侧面宽度相匹配,压缩比大于10:7。
4.根据权利要求2所述的装置,其特征在于,所述慢轴整形透镜将慢轴方向发散的泵浦光压缩为近高斯分布,且慢轴柱面凸透镜的焦点位于所述激光介质的横向长度内。
5.根据权利要求1所述的装置,其特征在于,所述激光介质浸没在液冷腔中,冷却液流过所述激光介质的两个振荡激光通光面、侧面泵浦面及其对侧面。
6.根据权利要求1所述的装置,其特征在于,所述激光介质内泵浦强度的空间分布在两个正交的方向上与所述谐振腔的基模相匹配。
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