[发明专利]基板清洗设备

权利要求书

1.一种基板清洗设备，其特征在于，包括：机架(1)、以及设于所述机架(1)上的在同一平面上依次排列的第一基板传送区(11)、基板清洗区(12)、和第二基板传送区(13)；

所述第一基板传送区(11)和第二基板传送区(13)均包括：相互平行间隔排列的多个传送旋转轴(22)，所述基板清洗区(12)包括：至少两个与传送旋转轴(22)平行且间隔排列的清洗旋转轴(21)；

每一个清洗旋转轴(21)上均设有多个相互平行间隔排列的支撑轴(211)，所述支撑轴(211)与所述清洗旋转轴(21)垂直传动连接，每一个支撑轴(211)远离清洗旋转轴(21)的一端套设有一个清洗刷头(212)；

各个清洗刷头(212)远离所述清洗旋转轴(21)的一侧端面均位于与所述清洗旋转轴(21)平行的同一平面上，相邻的两个清洗刷头(212)的侧面相切；

每一个传送旋转轴(22)上均套设有多个依次间隔排列的传送滚轮(221)；

还包括：多个自由滚轮(213)，所述自由滚轮(213)设于所述第一基板传送区(11)与基板清洗区(12)的连接处、以及所述第二基板传送区(13)和基板清洗区(12)的连接处，所述自由滚轮(213)的顶点与各个清洗刷头(212)远离所述清洗旋转轴(21)的一侧端面处于同一平面。

2.如权利要求1所述的基板清洗设备，其特征在于，所述清洗旋转轴(21)的数量为两个。

3.如权利要求1所述的基板清洗设备，其特征在于，所述清洗旋转轴(21)与所述支撑轴(211)之间通过一对斜齿轮垂直传动连接。

4.如权利要求1所述的基板清洗设备，其特征在于，还包括：设于所述机架(1)上的位于所述多个传送旋转轴(22)上方的与所述传送旋转轴(22)平行的多个辅助旋转轴(23)，每一个辅助旋转轴(23)均套设有多个依次间隔排列的辅助滚轮(231)。

5.如权利要求4所述的基板清洗设备，其特征在于，所述基板清洗设备工作时，所述辅助旋转轴(23)与所述传送旋转轴(22)旋转的方向相反。

6.如权利要求4所述的基板清洗设备，其特征在于，所述辅助滚轮(231)与传送滚轮(221)之间的最小距离等于需要清洗的基板的厚度。

7.如权利要求1所述的基板清洗设备，其特征在于，还包括：与所述传送旋转轴(22)以及清洗旋转轴(21)相连的驱动装置。

8.如权利要求7所述的基板清洗设备，其特征在于，所述驱动装置为旋转电机。