[发明专利]一种减反射膜的制备方法及大角度入射减反射膜

权利要求书

1.一种减反射膜的制备方法，其特征在于：包括以下步骤：

步骤S100，在基底上，采用真空热沉积方法交替进行正入射沉积高折射率单层膜及低折射率单层膜；

步骤S200，在最外层采用真空热沉积方法，以预设的入射沉积角度α倾斜沉积低折射率单层膜；

其中，所述入射沉积角度α为基底法线方向与膜料蒸汽入射方向的夹角，在所述步骤S200获得的膜系中，所述入射沉积角度α为78°，所述倾斜沉积低折射率单层膜的膜层厚度200nm以内，所述倾斜沉积的低折射率单层膜在深紫外波段的光学常数：在193nm波长的折射率为1.2111，消光系数为0.0005；

在沉积过程中，使光学基底以一定速率进行自转。

2.根据权利要求1所述的制备方法，其特征在于：在所述步骤S100获得的膜系中，所述高折射率单层膜在深紫外波段的光学常数：在193nm波长的折射率为1.68-1.72，消光系数为0.0025-0.003。

3.根据权利要求1所述的制备方法，其特征在于：在所述步骤S100获得的膜系中，所述低折射率单层膜在深紫外波段的光学常数：在193nm波长的折射率为1.40-1.42，消光系数为0.0004-0.0006。

4.根据权利要求1所述的制备方法，其特征在于：在所述步骤S100中，采用钼舟或钽舟作为蒸发容器，镀膜基底选用紫外CaF2或蓝宝石紫外光学基底,本底真空度<10^-6mbar，基底加温温度为250℃-300℃之间，薄膜厚度控制采用晶控方法。

5.根据权利要求2或3所述的制备方法，其特征在于：所述光学常数的测量方法为：采用Lambda950分光光度计测量所制备单层膜的透射光谱和反射光谱，并对所述透射光谱及反射光谱进行多极值光谱反演解析，得到单层膜的光学常数。

6.根据权利要求1所述的制备方法，其特征在于：在所述步骤S200之后，还包括，步骤S300，采用VUV光度计测试所述减反射膜的残余反射光谱和透射光谱；其中，测试时，在整个光路中吹扫高纯N₂，测试光偏振态选择P或S偏振，测试波长范围160nm-300nm。

7.根据权利要求1所述的制备方法，其特征在于：所述沉积高折射率单层膜采用的高折射率材料为LaF₃，所述沉积低折射率单层膜采用的低折射率材料为MgF₂。

8.一种大角度入射减反射膜，其特征在于：所述减反射膜采用权利要求1所述的制备方法制的，所述减反射膜的结构为：CaF₂/厚度为24.6nm的LaF₃层，厚度为53.8nm的MgF₂层，厚度为28.2nm的LaF₃层，厚度为53.8nm的MgF₂层，厚度为28.2nm的LaF₃层，厚度为53.7nm的MgF₂层，厚度为28.3nm的LaF₃层，厚度为3.5nm的MgF₂层，厚度为107.2nm的倾斜沉积的MgF₂层/空气，靠近空气的最外侧MgF₂膜采用真空热沉积方法，以入射沉积角度78°倾斜沉积而成。