[发明专利]磁记录介质及磁记录再生装置有效
| 申请号: | 201611161241.X | 申请日: | 2016-12-15 |
| 公开(公告)号: | CN107068168B | 公开(公告)日: | 2019-05-07 |
| 发明(设计)人: | 井上健;长谷川浩太 | 申请(专利权)人: | 昭和电工株式会社 |
| 主分类号: | G11B5/667 | 分类号: | G11B5/667;G11B5/851 |
| 代理公司: | 北京林达刘知识产权代理事务所(普通合伙) 11277 | 代理人: | 刘新宇;李茂家 |
| 地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 磁性层 垂直磁性层 磁记录介质 控制层 磁各向异性常数 磁记录再生装置 非磁性基板 软磁性底层 饱和磁化 磁性颗粒 粒状结构 保护层 连续柱 基板 膜厚 配向 强磁 交换 | ||
1.一种磁记录介质,在该磁记录介质的非磁性基板上至少设置了软磁性底层、对正上面的层的配向性进行控制的配向控制层、易磁化轴相对于所述非磁性基板进行了垂直配向的垂直磁性层、及保护层,
其中,所述垂直磁性层从所述非磁性基板侧开始依次包括第1磁性层、第2磁性层、第3磁性层、及第4磁性层,
所述第1磁性层至所述第4磁性层为粒状结构磁性层,
构成所述第1磁性层至所述第4磁性层的磁性颗粒为连续柱状晶,
所述第1磁性层和所述第2磁性层之间及所述第2磁性层和所述第3磁性层之间分别具有交换结合控制层,
所述第3磁性层与所述第4磁性层接触,
所述第1磁性层至所述第4磁性层为强磁结合,
在所述第1磁性层至所述第4磁性层的磁各向异性常数为Kui、饱和磁化强度为Msi、及膜厚为ti时,满足如下关系,即:
Kui>Kui+1,这里,i=1,2;
Msi·ti>Msi+1·ti+1,这里,i=1,2;
Kui<Kui+1,这里,i=3;及
Msi·ti<Msi+1·ti+1,这里,i=3。
2.如权利要求1所述的磁记录介质,其中,
所述Ms1在1200~500emu/cc的范围内,
所述Ku1在12×106~5×106erg/cc的范围内,
所述Ms2在1100~400emu/cc的范围内,
所述Ku2在11×106~4×106erg/cc的范围内,
所述Ms3在1000~300emu/cc的范围内,
所述Ku3在10×106~4×106erg/cc的范围内,
所述Ms4在900~200emu/cc的范围内,
所述Ku4在9×106~2×106erg/cc的范围内,
所述t1、t2、t3、及t4在1~10nm的范围内。
3.如权利要求1或2所述的磁记录介质,其中,
所述第4磁性层和保护层之间包括第5磁性层,
所述第5磁性层为非粒状结构磁性层,
构成所述第1磁性层至所述第5磁性层的磁性颗粒为连续柱状晶,
所述第4磁性层与所述第5磁性层接触,
所述第1磁性层至所述第5磁性层为强磁结合,
在所述第5磁性层的磁各向异性常数为Ku5、饱和磁化强度为Ms5、及膜厚为t5时,满足如下关系,即:
Ku4>Ku5;及
Ms4·t4>Ms5·t5。
4.如权利要求3所述的磁记录介质,其中,
在所述第5磁性层的磁各向异性常数为Ku5、饱和磁化强度为Ms5、及膜厚为t5时,满足如下关系,即:
Ku3>Ku5;及
Ms3·t3<Ms5·t5。
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