[发明专利]曝光装置、曝光方法以及物品的制造方法

权利要求书

1.一种曝光装置，使用相移掩模对基板进行曝光，该相移掩模包含在基准波长下使透射光的相位相互不同的第1区域以及第2区域，所述曝光装置的特征在于，包括：

第1变更部，变更对所述相移掩模进行照明的光的照明波长；

投影光学系统，将所述相移掩模的图案图像投影到所述基板；

第2变更部，变更所述投影光学系统的球面像差；以及

控制部，根据利用所述第1变更部变更为与所述基准波长不同的波长的所述照明波长及所述基准波长，控制利用所述第2变更部进行的所述球面像差的变更，

在变更为与所述基准波长不同的波长的所述照明波长下，对所述相移掩模进行照明，使用具有根据所述照明波长及所述基准波长变更了的所述球面像差的所述投影光学系统，将所述相移掩模的图案图像投影到所述基板。

2.根据权利要求1所述的曝光装置，其特征在于，

所述控制部以抑制由于所述照明波长是与所述基准波长不同的波长而产生的所述相移掩模的图案图像的焦深降低的方式，控制利用所述第2变更部进行的所述球面像差的变更。

3.根据权利要求1所述的曝光装置，其特征在于，

所述控制部以使由于利用所述第1变更部将所述照明波长相对于所述基准波长变更30nm以上而产生的焦深的变化降低的方式，控制利用所述第2变更部进行的所述球面像差的变更。

4.根据权利要求1所述的曝光装置，其特征在于，

还包括射出包含多个亮线光谱的光的光源，

所述第1变更部通过使从所述光源射出的包含所述多个亮线光谱的光的波长频带变窄来变更所述照明波长。

5.根据权利要求1所述的曝光装置，其特征在于，

所述控制部根据表示所述投影光学系统的球面像差相对所述基准波长和变更后的所述照明波长之差的变更量的信息，控制所述第2变更部。

6.根据权利要求5所述的曝光装置，其特征在于，

所述控制部将所述照明波长变更为相互不同的多个波长的各个波长，针对所述多个波长的各个波长而求出焦深为最大的所述投影光学系统的球面像差，从而取得所述信息。

7.根据权利要求1所述的曝光装置，其特征在于，

所述第2变更部通过使在所述投影光学系统中的光路上配置的光学元件移动，变更所述投影光学系统的球面像差。

8.根据权利要求1所述的曝光装置，其特征在于，

所述第2变更部通过更换在所述投影光学系统中的光路上配置的光学元件，变更所述投影光学系统的球面像差。

9.根据权利要求7所述的曝光装置，其特征在于，

所述投影光学系统包括凹面镜以及凸面镜，

所述光学元件包括在所述凹面镜与所述凸面镜之间的光路上配置的弯月面透镜。

10.根据权利要求1所述的曝光装置，其特征在于，

还包括变更散焦量的第3变更部，

所述控制部以校正控制所述第2变更部之后的散焦量的方式控制第3变更部。

11.根据权利要求1所述的曝光装置，其特征在于，

所述基准波长是所述第1区域的透射光和所述第2区域的透射光的相位差为180度时的波长。