[发明专利]一种治理黑臭水的系统和方法在审
申请号: | 201611129199.3 | 申请日: | 2016-12-09 |
公开(公告)号: | CN106587499A | 公开(公告)日: | 2017-04-26 |
发明(设计)人: | 苏子杰;范小江;张锡辉 | 申请(专利权)人: | 深圳市康源环境纳米科技有限公司;清华大学深圳研究生院 |
主分类号: | C02F9/14 | 分类号: | C02F9/14;C02F3/06;C02F3/10;C02F1/44 |
代理公司: | 深圳新创友知识产权代理有限公司44223 | 代理人: | 方艳平 |
地址: | 518000 广东省深圳市南山*** | 国省代码: | 广东;44 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 治理 黑臭水 系统 方法 | ||
技术领域
本发明涉及黑臭水治理领域,尤其涉及一种治理黑臭水的系统和方法。
背景技术
我国黑臭水体污染较为严重,直至2015年末,全国295座地级市中,超过七成城市排查出黑臭书体,已认定的黑臭水体总数超过1861个,黑臭水体治理工作刻不容缓。国务院颁布的《水污染防治行动计划》(2015)提出:2017年年底前,地级及以上城市实现河面无大面积漂浮物,河岸无垃圾,无违法排污口,直辖市、省会城市、计划单列市建成区基本消除黑臭水体;2020年年底前,地级以上城市建成区黑臭水体均控制在10%以内;到2030年,全国城市建成区黑臭水体总体得到消除。
黑臭水体治理工作涉及民生,政府尤其关注。传统的黑臭水体治理工作多为内源控制技术和生态修复技术,包括清淤疏浚、岸带修复、人工增氧、清水补给等,这些方法见效时间长,处理效果不稳定,工程建设和运行成本相对较高,工程实施难度大。只有污染源头控制和水体修复工作双结合,才可快速治理黑臭水体环境,提高周围居民生活质量。
以上背景技术内容的公开仅用于辅助理解本发明的构思及技术方案,其并不必然属于本专利申请的现有技术,在没有明确的证据表明上述内容在本专利申请的申请日已经公开的情况下,上述背景技术不应当用于评价本申请的新颖性和创造性。
发明内容
为解决上述技术问题,本发明提出一种治理黑臭水的系统和方法,实现对黑臭水进行高效地除黑除臭,出水水质达到不黑不臭的标准。
为实现上述目的,本发明采用以下技术方案:
本发明公开了一种治理黑臭水的系统,包括生物接触氧化单元、陶瓷膜过滤 单元、抽吸泵和清水池,其中:
所述生物接触氧化单元内设有生物组合填料和纯氧曝气器,用于将黑臭水在纯氧环境下进行分解;
所述陶瓷膜过滤单元连接所述生物接触氧化单元,所述陶瓷膜过滤单元内设有陶瓷膜组件,所述陶瓷膜组件是由具有孔隙通道的陶瓷膜组成的组件,所述陶瓷膜组件用于对分解后的黑臭水进行截留;
所述抽吸泵连接在所述陶瓷膜过滤单元和所述清水池之间,用于将通过所述陶瓷膜组件的处理后的水排送至所述清水池。
优选地,所述陶瓷膜上的孔隙通道的平均直径为25~100nm。
优选地,所述生物接触氧化单元的底部设有锥形泥斗,用于收集沉淀物。
优选地,所述陶瓷膜过滤单元内还设有空气曝气器,所述空气曝气器设置在所述陶瓷膜组件的下方,以对所述陶瓷膜组件的表面进行清洗。
本发明还公开了一种采用上述的系统治理黑臭水的方法,包括:
S1:黑臭水进入到所述生物接触氧化单元,黑臭水在纯氧环境下与所述生物组合填料反应进行分解;
S2:分解后的黑臭水进入到所述陶瓷膜过滤单元,所述陶瓷膜组件对分解后的黑臭水进行截留;
S3:所述抽吸泵将通过所述陶瓷膜组件的处理后的水抽送至所述清水池。
优选地,步骤S1中黑臭水在所述生物接触氧化单元内的反应时间为1h,所述纯氧曝气器的纯氧曝气气水比为0.075:1,出水溶解氧≥15mg/L。
优选地,步骤S1中所述生物接触氧化单元的氨氮负荷值为0.5~1.3kgNH4-N/(m3d)。
优选地,步骤S2中还包括:将所述陶瓷膜过滤单元内的分解后的黑臭水以预设周期回流至所述生物接触氧化单元内进行再次分解,所述预设周期为每小时回流10min。
优选地,步骤S2中所述陶瓷膜组件的通量为0.5~0.8m3/(m2d)。
优选地,所述方法还包括S4:将所述清水池内的水抽送返回至所述陶瓷膜过滤单元内以对所述陶瓷膜组件进行反冲洗,反冲洗强度的通量为所述陶瓷膜组件的通量的2~3倍。
与现有技术相比,本发明的有益效果在于:本发明的治理黑臭水的系统和方法中,黑臭水首先进入生物接触氧化单元,生物接触氧化单元内设有生物组合填料和纯氧曝气器,在纯氧环境下实现高效快速地对黑臭水体进行分解,经过分解的黑臭水体进入到陶瓷膜过滤单元内经过陶瓷膜组件过滤后完成对黑臭水的处理,黑臭水在经过生物接触氧化单元和陶瓷膜过滤单元后,出水水质满足《城市黑臭水体整治工作指南》中4项特征指标(透明度、溶解氧、氧化还原电位和氨氮)达到不黑不臭的范围,即透明度>25cm、溶解氧>0.2mg/L、氧化还原电位>50mV、氨氮<8mg/L。
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