[发明专利]电子照相感光体、处理盒和图像形成设备有效

专利信息
申请号: 201611122567.1 申请日: 2016-12-08
公开(公告)号: CN107490939B 公开(公告)日: 2022-08-30
发明(设计)人: 春山大辅;宫本昌彦 申请(专利权)人: 富士胶片商业创新有限公司
主分类号: G03G5/10 分类号: G03G5/10;G03G5/14;G03G5/147
代理公司: 北京三友知识产权代理有限公司 11127 代理人: 庞东成;龚泽亮
地址: 日本*** 国省代码: 暂无信息
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摘要:
搜索关键词: 电子 照相 感光 处理 图像 形成 设备
【说明书】:

本发明涉及电子照相感光体、处理盒和图像形成设备。所述电子照相感光体包含:导电性支持体,其中在外周面上不存在(i)开口直径大于400μm的凹部及(ii)开口直径为100μm~400μm且深度与开口直径之比大于0.12的凹部,其中,即使在导电性支持体的外周面上存在开口直径为100μm~400μm且深度与开口直径之比为0.12以下的第一凹部,并且在最外层的外周面上存在反映第一凹部的第二凹部的情况下,第二凹部的深度与开口直径之比不大于0.030。

技术领域

本发明涉及电子照相感光体、处理盒及图像形成设备。

背景技术

已知有在导电性支持体上配置至少感光层的电子照相感光体作为设置在电子照相图像形成设备中的电子照相感光体,已知有下列实例作为导电性支持体。

专利文献1公开了一种电子照相感光体,其中圆筒形支持体的外表面上存在的凹陷数量满足下列描述(1)~(4)。(1)开口距离等于或大于30μm且小于250μm,并且深度等于或大于1μm且小于5μm的凹陷数量为10~100个,(2)开口距离等于或大于250μm且小于400μm,并且深度小于8μm的凹陷数量等于或小于5个,(3)开口距离小于400μm,并且深度等于或大于5μm且小于8μm的凹陷数量等于或小于5个,(4)开口距离等于或大于400μm或者深度等于或大于8μm的凹陷数量为0个。

[专利文献1]日本特开2013-205479号公报

发明内容

本发明的目的在于提供一种电子照相感光体,与导电性支持体的外周面上存在开口直径大于400μm的凹部的情况或者导电性支持体的外周面上存在开口直径为100μm~400μm并且深度与开口直径之比大于0.12的凹部的情况相比,所述电子照相感光体防止了图像中白点的产生。

通过下列构成实现上述目的。

根据本发明的第一方面,提供了一种电子照相感光体,其包含:

导电性支持体,所述导电性支持体的外周面上不存在(i)开口直径大于400μm的凹部及(ii)开口直径为100μm~400μm并且深度与开口直径之比大于0.12的凹部;

设置在所述导电性支持体上的底涂层;及

设置在所述底涂层上的感光层,

其中,即使在所述导电性支持体的外周面上存在开口直径为100μm~400μm且深度与开口直径之比为0.12以下的第一凹部,并且在所述电子照相感光体的最外层的外周面上存在反映第一凹部的第二凹部的情况下,第二凹部的深度与开口直径之比也不大于0.030。

根据本发明的第二方面,在如第一方面所述的电子照相感光体中,第一凹部的深度与开口直径之比为0.11以下。

根据本发明的第三方面,在如第一方面所述的电子照相感光体中,第一凹部的深度与开口直径之比为0.10以下。

根据本发明的第四方面,在如第一方面所述的电子照相感光体中,第二凹部的深度与开口直径之比为0.025以下。

根据本发明的第五方面,在如第一方面所述的电子照相感光体中,第二凹部的深度与开口直径之比为0.020以下。

根据本发明的第六方面,在如第一方面所述的电子照相感光体中,所述导电性支持体为冲压(impact press)加工品。

根据本发明的第七方面,在如第一方面所述的电子照相感光体中,所述导电性支持体是经过变薄压延(ironing)的冲压加工品。

根据本发明的第八方面,在如第一方面所述的电子照相感光体中,所述底涂层的平均厚度为25μm~35μm。

根据本发明的第九方面,在如第一方面所述的电子照相感光体中,所述导电性支持体由含铝金属形成。

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