[发明专利]一种基于自适应光学的光谱成像装置有效

专利信息
申请号: 201611119609.6 申请日: 2016-12-08
公开(公告)号: CN106556461B 公开(公告)日: 2018-04-06
发明(设计)人: 汤媛媛;张雨东;魏凯;范真涛 申请(专利权)人: 中国科学院光电技术研究所
主分类号: G01J3/02 分类号: G01J3/02;G01J3/28
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 610209 *** 国省代码: 四川;51
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摘要:
搜索关键词: 一种 基于 自适应 光学 光谱 成像 装置
【权利要求书】:

1.一种基于自适应光学的光谱成像装置,其特征在于:包括准直器(1)、倾斜镜(2)、波前校正器DM(3)、二向色分光镜(4)、波前探测器(5)、波前控制器(6)、成像系统(7)、望远镜一次像面(8)、中继光学系统(9)、望远镜二次像面(10)、图像切分器(11)、狭缝(12)、准直镜(13)、光栅(14)、成像镜(15)、探测器(16)和数据处理及控制计算机(17);其中:

望远镜(18)对目标成像后,经准直器(1)准直为平行光后入射至倾斜镜(2),用于实时校正大气湍流造成的波前整体倾斜;经倾斜镜后光束反射至波前校正器DM(3),用于实时校正高阶大气湍流像差引起的波前畸变,经波前校正器DM(3)反射后的光束被二向色分光镜(4)分为反射光和透射光,透射的部分进入波前探测器(5),反射的部分进入成像系统(7),其中,波前探测器能对不断变化的波前畸变进行实时探测,并对波前畸变中的不同类型像差进行分离,经数据处理和控制计算机处理后,得到控制波前控制器的驱动信号,分别用于控制倾斜镜和波前校正器DM,成像系统(7)对经自适应像差校正后的光束进行成像,校正后的光束成像在望远镜焦平面处,即一次像面(8),同时获得目标经自适应光学校正后的清晰图像,中继光学系统(9)对一次像面(8)处的目标图像进行放大或者缩小,以匹配所需的空间采样,并再次成像,即产生二次像面(10),图像切分器(11)放置在二次像面(10),对目标图像进行分割采样,并将采样后的图像由二维转换为一维,呈线型依次排列在光谱成像装置的狭缝(12)上,通过狭缝(12)后光束被准直镜(13)准直为平行光,入射到光栅(14),经光栅(14)色散分光后的光束由成像镜(15)会聚于探测器(16)的焦面处,再把数据传送至数据处理及控制计算机(17)进行处理,它负责整个装置的协同工作,最后通过数据处理方法重建图像和光谱信息,生成三维图谱立方体。

2.根据权利要求1所述的一种基于自适应光学的光谱成像装置,其特征在于:所述图像切分器(11)的输入端位于经自适应像差校正后望远镜的二次像面上,以实现对目标图像的分割、耦合与采样。

3.根据权利要求1或2所述的一种基于自适应光学的光谱成像装置,其特征在于:所述图像切分器(11)对输入端的图像采样后传输到输出端,输入端和输出端的采样单元一一对应,图像切分器输入端为二维排列,以满足对二维像面的分割采样;图像切分器的输出端为一维线性排列,与光栅刻线方向平行。

4.根据权利要求1或2所述的一种基于自适应光学的光谱成像装置,其特征在于:所述图像切分器(11)由单根光纤组合而成,或者由微透镜-光纤单元组合而成,也可以是微透镜-光纤-微透镜的组合形式,用来实现像面的分割、耦合与采样。

5.根据权利要求1或2所述的一种基于自适应光学的光谱成像装置,其特征在于:所述图像切分器(11)的输出端为一维线性排列的光纤时,光纤排列于狭缝位置处;图像切分器的输出端为一维线性排列的微透镜时,单个微透镜所成的像也呈一维线型排列,且成像于狭缝位置处。

6.根据权利要求1所述的一种基于自适应光学的光谱成像装置,其特征在于:所述成像系统(7)为高分辨力成像系统,可达到近衍射极限成像分辨率。

7.根据权利要求1所述的一种基于自适应光学的光谱成像装置,其特征在于:所述中继光学系统(9)为像方远心光学系统,以提高像面到图像切分器的光能耦合效率;同时,该中继光学系统的放大倍率用于匹配图像切分器的空间采样大小。

8.根据权利要求1所述的一种基于自适应光学的光谱成像装置,其特征在于:所述狭缝(12)为长狭缝,以容纳更多的空间采样单元;且狭缝方向与光栅刻线方向平行。

9.根据权利要求1所述的一种基于自适应光学的光谱成像装置,其特征在于:所述狭缝(12)宽度可调,调整时为手动调整或电动调整;狭缝宽度的选择,需满足对目标成像空间分辨力的采样要求,同时也需满足对目标光谱分辨力的采样要求。

10.根据权利要求1所述的一种基于自适应光学的光谱成像装置,其特征在于:所述探测器(16)为大靶面面阵探测器,以容纳更多的空间采样和光谱采样单元。

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