[发明专利]一种二维介孔(GaN)1-x(ZnO)x固溶体纳米材料及其制备方法有效
申请号: | 201611069088.8 | 申请日: | 2016-11-29 |
公开(公告)号: | CN108117052B | 公开(公告)日: | 2020-10-16 |
发明(设计)人: | 刘宝丹;杨文进;李晶;张兴来;姜辛 | 申请(专利权)人: | 中国科学院金属研究所 |
主分类号: | C01B21/06 | 分类号: | C01B21/06;C01G9/02;B82Y30/00 |
代理公司: | 沈阳优普达知识产权代理事务所(特殊普通合伙) 21234 | 代理人: | 张志伟 |
地址: | 110016 辽*** | 国省代码: | 辽宁;21 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 二维 gan zno 固溶体 纳米 材料 及其 制备 方法 | ||
本发明涉及半导体纳米材料领域,具体涉及一种二维介孔(GaN)1‑x(ZnO)x固溶体纳米材料及其制备方法。(GaN)1‑x(ZnO)x固溶体纳米材料为多孔的二维纳米片组装而成,形貌呈组装均一的花瓣状结晶良好的单晶结构;二维纳米片呈规则的六角形,二维纳米片的厚度为5~80纳米,二维纳米片的直径为0.5~10微米,二维纳米片的孔径为5~50纳米。该二维介孔(GaN)1‑x(ZnO)x固溶体纳米材料采用两步法制备而成,具有工艺流程简单,实施方便,可大量合成等优点。本发明制备的(GaN)1‑x(ZnO)x固溶体纳米材料形貌均一,分散性好,适合构筑薄膜及柔性器件。
技术领域
本发明涉及半导体纳米材料领域,具体涉及一种二维介孔(GaN)1-x(ZnO)x固溶体纳米材料及其制备方法。
背景技术
当前,随着化石能源的消耗和枯竭,能源问题日益突显,已成为制约人类发展和困扰人民生活的一大难题。因此,寻找和开发新型、清洁及可再生的能源成为当下的主题。自2005年日本的Maeda等人发现(GaN)1-x(ZnO)x固溶体具有光催化制氢性能伊始,提高其催化效率成了众多科员工作者追求的目标。目前已知的(GaN)1-x(ZnO)x固溶体形貌主要以纳米颗粒和纳米线为主,但由于纳米颗粒容易团聚,而纳米线生长需要衬底,不利于大量制备,均降低了(GaN)1-x(ZnO)x固溶体光催化能量转化效率。因而,制备出形貌更为理想的(GaN)1-x(ZnO)x固溶体材料成为提高其光催化效率的一个有效途径。
二维介孔材料因其具有极大的比表面积和良好的催化活性,在催化领域备受重视。花瓣状的二维介孔材料不仅完美的继承了二维介孔材料的优点,而且避免了纳米片相互间的团聚,可以极大地提高光的利用率,是光催化材料较为理想的形貌。但目前介孔材料的合成主要以模板法或溶胶凝胶法为主,这些方法合成条件苛刻、流程复杂,并且所制备出的介孔材料分散性不好、容易团聚,不利于大规模的生产和实际应用。
发明内容
为解决上述现有技术存在的问题,本发明提供了一种二维介孔(GaN)1-x(ZnO)x固溶体纳米材料及其制备方法,该制备方法工艺流程简单,操作方便,适合大量合成,所获得的(GaN)1-x(ZnO)x固溶体纳米材料形貌、尺寸均一,为结晶良好的单晶体。
本发明采用如下技术方案:
一种二维介孔(GaN)1-x(ZnO)x固溶体纳米材料,(GaN)1-x(ZnO)x固溶体纳米材料为多孔的二维纳米片组装而成,形貌呈组装均一的花瓣状结晶良好的单晶结构,X=0.15~0.45;二维纳米片呈规则的六角形,二维纳米片的厚度为5~80纳米,二维纳米片的直径为0.5~10微米,二维纳米片的孔径为5~50纳米,二维纳米片的孔隙率为15~85%。
所述的二维介孔(GaN)1-x(ZnO)x固溶体纳米材料,(GaN)1-x(ZnO)x固溶体纳米材料其纳米片表面为粗糙表面,表面分布塔锥状(GaN)1-x(ZnO)x固溶体。
所述的二维介孔(GaN)1-x(ZnO)x固溶体纳米材料,(GaN)1-x(ZnO)x固溶体纳米材料成分含量可调,其中ZnO的原子百分比为15%~45%。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于中国科学院金属研究所,未经中国科学院金属研究所许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201611069088.8/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。