[发明专利]一种吸波材料辐射影响仿真方法和系统

权利要求书

1.一种吸波材料辐射影响仿真方法，用于电磁兼容暗室，所述电磁兼容暗室为封闭的六面体屏蔽室，其中五个内表面铺设有吸波材料，其特征在于，包括以下步骤：

在所述电磁兼容暗室内建立辐射源和接收天线；

在所述辐射源关于每个所述铺设有吸波材料的内表面的镜像位置，分别建立一个等效辐射源，所述等效辐射源的强度为所述辐射源强度与所述吸波材料反射损耗的乘积；

在未铺设吸波材料的内表面为良导体、去除铺设有吸波材料内表面、保留等效辐射源的条件下计算所述接收天线接收到的辐射场强度，作为仿真场强度。

2.如权利要求1所述吸波材料辐射影响仿真方法，其特征在于，还包括以下步骤：

在铺设有吸波材料内表面无反射的条件下计算所述接收天线收到的辐射场强度，作为理想场强度；

计算所述理想场强度和所述仿真场强度的差值。

3.一种吸波材料辐射影响仿真系统，用于仿真电磁兼容暗室，所述电磁兼容暗室为封闭的六面体屏蔽室，在所述电磁兼容暗室内有辐射源和接收天线，所述辐射源与第一内表面的距离为X₁；所述辐射源与第二内表面的距离为X₂；所述辐射源与第三内表面的距离为Y₁；所述辐射源与第四内表面的距离为Y₂；所述辐射源与第五内表面的距离为Z₁；所述辐射源与第六内表面的距离为Z₂；以所述辐射源为直角坐标系(x，y，z)的原点，所述第一内表面的位置为x＝X₁；所述第二内表面的位置为x＝-X₂；所述第三内表面的位置为y＝Y₁；所述第四内表面的位置为y＝-Y₂；所述第五内表面的位置为z＝Z₁；所述第六内表面的位置为z＝-Z₂；所述第一内表面、第二内表面、第三内表面、第四内表面、第五内表面均铺设有吸波材料；所述第六内表面为良导体；其特征在于，所述仿真系统包含：仿真源、仿真接收天线、等效源；

所述等效源包含第一等效源、第二等效源、第三等效源、第四等效源、第五等效源；

所述仿真源，用于产生辐射场；所述仿真接收天线，用于接收所述辐射场；

以所述仿真源为直角坐标系(x’，y’，z’)的原点，则所述第一等效源的位置为(2X₁，0，0)，所述第二等效源的位置为(-2X₂，0，0)，所述第三等效源的位置为(0，2Y₁，0)，所述第四等效源的位置为(0，-2Y₂，0)，所述第五等效源的位置为(0，0，2Z₁)；

所述仿真接收天线相对于所述仿真源的位置，与所述接收天线相对于所述辐射源的位置相同；

所述第一等效源的强度为所述仿真源强度与所述第一内表面铺设的吸波材料反射损耗的乘积；

所述第二等效源的强度为所述仿真源强度与所述第二内表面铺设的吸波材料反射损耗的乘积；

所述第三等效源的强度为所述仿真源强度与所述第三内表面铺设的吸波材料反射损耗的乘积；

所述第四等效源的强度为所述仿真源强度与所述第四内表面铺设的吸波材料反射损耗的乘积；

所述第五等效源的强度为所述仿真源强度与所述第五内表面铺设的吸波材料反射损耗的乘积；

z’＝-Z₂位置为良导体板。