[发明专利]堆叠式涂胶显影系统

说明书

本发明涉及半导体加工领域，具体地说是一种堆叠式涂胶显影系统，晶圆通过片盒卸装料机器人在片盒、增粘工艺塔和第一热处理工艺塔间传送，并通过第一上下层传输机器人在增粘工艺塔中的增粘单元和中转单元间传送，在不同工艺站组中，晶圆均通过上下叠置的显影工艺机器人与涂胶工艺机器人在热处理工艺塔和涂胶显影工艺塔间传送，不同工艺站组的热处理工艺塔通过传片单元传递晶圆，晶圆通过第二上下层运输机器人在第二显影工艺机器人、第二涂胶工艺机器人、晶圆中转站塔和边缘曝光单元间传送，晶圆通过接口站传送机器人在晶圆中转站塔和光刻机间传送。本发明具有机器人服务工艺单元数少、晶片传递方向唯一、设备占地面积小等特点。

技术领域

本发明涉及半导体加工领域，具体地说是一种堆叠式涂胶显影系统。

背景技术

现有技术中，半导体晶片加工中的光刻工艺制程是由涂胶机、光刻机、显影机分别对晶片完成光刻胶涂布、光刻以及显影作业，随着半导体晶片加工工艺水平的提升，出现了将涂胶显影设备与光刻机连接在一起以实现整个光刻工艺过程，由于光刻机的价格远高于涂胶显影设备，因此该种方式中的涂胶显影设备必须要尽量匹配或高于光刻机的产能，而涂胶显影设备的产能则是由单元工艺瓶颈产能与机器人传输瓶颈产能决定。在特定的工艺时间下，工艺单元瓶颈产能的提升只能通过增加单元数量来实现，而机器人传输瓶颈产能的提升则可以通过提升机器人传输速度和增加机器人数量来实现。然而随着光刻机产能的提升，涂胶显影设备的单元数和机器人数也随之不断增多，这也意味着涂胶显影设备要做得越来越大，然而涂胶显影设备的占地面积毕竟有限，相同产能配置前提下较小的设备占地面积无疑是更具有市场竞争力的。

发明内容

本发明的目的在于提供一种堆叠式涂胶显影系统，其具有单一机器人服务工艺单元数少、晶片在设备内传递方向唯一、相同配置产能前提下设备占地面积小等特点。

本发明的目的是通过以下技术方案来实现的：

一种堆叠式涂胶显影系统，包括片盒站、增粘工艺站、第一工艺站组、第二工艺站组、接口站、光刻机和多个传输机器人，其中片盒站设有片盒和片盒卸装料机器人，增粘工艺站设有第一上下层传输机器人和增粘工艺塔，且所述增粘工艺塔上设有增粘单元和中转单元，第一工艺站组设有第一涂胶工艺机器人、第一显影工艺机器人、第一热处理工艺塔和第一涂胶显影工艺塔，且所述第一显影工艺机器人与第一涂胶工艺机器人叠置，晶圆通过所述片盒卸装料机器人在所述片盒、增粘工艺塔和第一热处理工艺塔间传送，晶圆通过所述第一上下层传输机器人在所述增粘工艺塔中的增粘单元和中转单元间传送，晶圆通过所述第一显影工艺机器人与第一涂胶工艺机器人在所述第一热处理工艺塔和第一涂胶显影工艺塔间传送，所述第二工艺站组设有第二涂胶工艺机器人、第二显影工艺机器人、第二热处理工艺塔和第二涂胶显影工艺塔，且第二显影工艺机器人和第二涂胶工艺机器人叠置，在所述第一热处理工艺塔和第二热处理工艺塔上设有传递晶圆的传片单元，晶圆通过所述第二涂胶工艺机器人和第二显影工艺机器人在所述第二热处理工艺塔和第二涂胶显影工艺塔间传送，接口站设有第二上下层运输机器人、边缘曝光单元、接口站传送机器人和晶圆中转站塔，晶圆通过所述第二上下层运输机器人在第二显影工艺机器人、第二涂胶工艺机器人以及晶圆中转站塔间传送，并且晶圆还通过所述第二上下层运输机器人在所述晶圆中转站塔和边缘曝光单元间传送，晶圆通过所述接口站传送机器人在所述晶圆中转站塔和光刻机间传送。

所述片盒站和增粘工艺站设置于系统的前端，第一工艺站组和第二工艺站组依次设置于系统的中部，接口站和光刻机设置于系统的后端；所述第一显影工艺机器人与第一涂胶工艺机器人叠置，且所述第一显影工艺机器人与第一涂胶工艺机器人设置于第一热处理工艺塔和第一涂胶显影工艺塔之间靠近所述增粘工艺站的一端；第二显影工艺机器人和第二涂胶工艺机器人叠置，且所述第二涂胶工艺机器人和第二显影工艺机器人设置于第二热处理工艺塔和第二涂胶显影工艺塔之间靠近所述接口站的一端。

不同工艺站组中的热处理工艺塔设置于系统的同一侧，不同工艺站组中的涂胶显影工艺塔设置于系统的另一侧。