[发明专利]气体管路的加热装置及半导体加工设备在审

专利信息
申请号: 201611025301.5 申请日: 2016-11-16
公开(公告)号: CN108072171A 公开(公告)日: 2018-05-25
发明(设计)人: 琚里 申请(专利权)人: 北京北方华创微电子装备有限公司
主分类号: F24H3/00 分类号: F24H3/00;F24H9/18;F24H9/00;F24H9/20;H01L21/67
代理公司: 北京天昊联合知识产权代理有限公司 11112 代理人: 彭瑞欣;张天舒
地址: 100176 北*** 国省代码: 北京;11
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摘要:
搜索关键词: 发热元件 加热装置 气体管路 半导体加工设备 引入组件 内管 电源电连接 气体输入端 热交换效率 负极 环形间隙 加热内管 均匀缠绕 热量流失 真空隔离 外壁 外管 电源
【权利要求书】:

1.一种气体管路的加热装置,所述气体管路包括相互嵌套的外管和内管,二者之间具有环形间隙,其特征在于,所述加热装置包括发热元件、电引入组件和电源,其中,

所述发热元件均匀缠绕在所述内管的外壁上,用以加热所述内管中的气体;

所述电引入组件设置在所述外管和内管的气体输入端,用以将所述环形间隙与外界真空隔离,并将所述发热元件的正/负极与所述电源电连接。

2.根据权利要求1所述的气体管路的加热装置,其特征在于,所述电引入组件包括第一法兰、两个电连接件和两个密封圈,其中,在所述外管和内管的气体输入端设置有第二法兰,所述第二法兰与所述第一法兰对接,且通过多个螺栓连接;

所述两个电连接件的内端依次贯穿所述第一法兰和第二法兰,并分别与所述发热元件的正极和负极电连接;所述两个电连接件的外端延伸至外界,并与所述电源电连接;

每个所述密封圈设置在所述电连接件和第一法兰之间;或者,每个所述密封圈设置在所述电连接件和第二法兰之间;或者,每个所述密封圈设置在所述电连接件与第二法兰之间,以及所述电连接件与第一法兰之间。

3.根据权利要求1所述的气体管路的加热装置,其特征在于,所述电引入组件包括法兰、两个电连接件和两个密封圈,其中,

所述法兰同时与所述外管和内管的气体输入端密封连接;

所述两个电连接件的内端贯穿所述法兰,并分别与所述发热元件的正极和负极电连接;所述两个电连接件的外端延伸至外界,并与所述电源电连接;

每个所述密封圈设置在所述电连接件和法兰之间。

4.根据权利要求3所述的气体管路的加热装置,其特征在于,所述法兰采用焊接的方式与所述外管和内管的输入端密封连接。

5.根据权利要求1所述的气体管路的加热装置,其特征在于,所述发热元件包括电伴热带或者电阻丝。

6.根据权利要求5所述的气体管路的加热装置,其特征在于,在所述发热元件的外表面包覆有保护层,用于提高所述发热元件的耐高温性能。

7.根据权利要求6所述的气体管路的加热装置,其特征在于,所述保护层包括玻璃棉或者矿物棉。

8.根据权利要求1所述的气体管路的加热装置,其特征在于,所述加热装置还包括温度控制单元,用于控制向所述发热元件输出的加热功率。

9.根据权利要求1所述的气体管路的加热装置,其特征在于,在所述外管的外侧设置有压力表,用以检测所述环形间隙中的气压。

10.一种半导体加工设备,包括反应腔室、气体管路和加热装置,其中,所述气体管路包括相互嵌套的外管和内管,二者之间具有环形间隙,并且所述内管用于向所述反应腔室内输送工艺气体;所述加热装置用于对所述内管中的工艺气体进行加热,其特征在于,所述加热装置采用权利要求1-9任意一项所述的加热装置。

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