[发明专利]一种抗感染药物羟氨苄晶体化合物及其组合物

说明书

本发明属于医药技术领域，公开了一种抗感染药物头孢羟氨苄新晶体化合物及其组合物。所述的头孢羟氨苄晶体化合物的结构式如式(I)所示，该晶体化合物用粉末X射线衍射测定法测定，以2θ±0.2°衍射角表示的X射线粉末衍射图谱如图1所示。该晶体化合物纯度高，杂质含量低，稳定性好，且不易吸湿、流动性好，大大提高了其溶解性。利用该晶体化合物制成的颗粒剂组成简单、杂质含量低、稳定性好。

技术领域

本发明属于医药领域，具体涉及一种抗感染药物头孢羟氨苄晶体化合物及其组合物。

背景技术

头孢羟氨苄，化学名称为(6R,7R)-3-甲基-7-[(R)-2-氨基-2-(4-羟基苯基)乙酰氨基]-8-氧代-5-硫杂-1-氮杂双环[4.2.0]辛-2-烯-2-甲酸一水合物，它是一种众所周知的具有抗菌活性的抗生素，是由美国勃列斯多-迈耶公司开发的第二代口服头孢菌素，其结构式如式(Ⅰ)所示：

头孢羟氨苄具有较强的抗革兰氏阳性菌作用及一定的抗革兰氏阴性菌作用，对青霉素酶较稳定，且过敏反应较少。具有口服吸收好、抗菌力强、耐酶、疗效高，血药浓度维持时间长和毒性低,半衰期长且不受食物影响和副作用少等特点。临床上广泛用于治疗呼吸道、泌尿道、口腔和皮肤软组织等部位的敏感菌感染。

由于头孢羟氨苄具有上述优点，在国内外应用非常广泛，1984年进入我国市场后，市场销量逐年上升，现已成为临床应用最广泛的口服抗感染药之一。目前国内上市的头孢羟氨苄制剂有胶囊剂、分散片、片剂、颗粒、干混悬剂等剂型。

CN 105534937A及CN 105640895A公开了一种头孢羟氨苄晶型化合物，其X-射线粉末衍射图如图3所示。与现有技术相比，不仅在高温、高湿和强光条件下杂质含量无显著改变，稳定性大大提高；而且制剂的生物利用度还得到了显著提高。

CN 104447795 B公开了一种头孢羟氨苄化合物及其药物组合物，本发明的头孢羟氨苄化合物含有3.5水，具有显著改善其水溶性和吸湿性的优点，其X-射线粉末衍射图如图4所示。

然而，由于现有的头孢羟氨苄原料在高温高湿等条件下不稳定，易吸湿降解，溶解性不好，导致其流动性较差，从而造成制剂产品的质量稳定性较差，不利于长期存放，给临床使用中的安全性、有效性带来隐患。现有制剂制备中都是通过添加稳定剂、包合剂及相关辅料来提高其稳定性等。

本发明人以现有头孢羟氨苄粗品为原料，经过大量试验，制得了一种完全不同于现有技术的头孢羟氨苄新晶体化合物，并通过试验，惊喜地发现该晶体化合物纯度高，杂质含量低，稳定性好，且不易吸湿、流动性好，大大提高了其溶解性。利用该晶体化合物制成的颗粒剂组成简单、杂质含量低、稳定性好。

发明内容

本发明的第一目的在于提供一种抗感染药物头孢羟氨苄晶体化合物，该晶体化合物不仅纯度高，杂质含量低，稳定性好，而且其不易吸湿，流动性、溶解性等明显优于现有技术。

本发明的第二目的在于提供所述的头孢羟氨苄晶体化合物的制备方法，该方法工艺简单，收率高，重复性强，适合于工业化生产。

本发明的第三目的在于提供一种头孢羟氨苄颗粒剂，所述的颗粒剂含有本发明所提供的头孢羟氨苄晶体化合物或本发明的制备方法制得的头孢羟氨苄晶体化合物。该颗粒剂由头孢羟氨苄制成的颗粒剂组成简单、杂质含量低、稳定性好。

为实现本发明的第一目的，本发明采用如下技术方案：

一种抗感染药物头孢羟氨苄晶体化合物，其特征在于，所述的头孢羟氨苄晶体化合物的结构式如式(Ⅰ)所示，该晶体化合物用粉末X射线衍射测定法测定，以2θ±0.2°衍射角表示的X射线粉末衍射图谱如图1所示，

为实现本发明的第二目的，本发明采用如下技术方案：