[发明专利]光刻机水平向测量装置及方法

权利要求书

1.一种光刻机水平向测量装置，其特征在于，包括整机框架、设于所述整机框架上的投影物镜单元、物镜倾角测量单元和物镜倾角补偿单元，所述物镜倾角测量单元包括与所述投影物镜单元镜筒上方位对应的第一位置测量单元、与所述投影物镜单元镜筒下方位对应的第二位置测量单元以及位于所述投影物镜单元一侧的主支架；

所述第一位置测量单元包括固设于所述主支架上的掩模台干涉仪支架、设于所述掩模台干涉仪支架上的掩模台测量干涉仪和物镜掩模台参考干涉仪、以及设于所述投影物镜单元上方且与所述物镜掩模台参考干涉仪对应的物镜掩模台参考镜，所述物镜掩模台参考干涉仪设于所述掩模台测量干涉仪下方；

所述第二位置测量单元包括固设于所述主支架上的工件台干涉仪支架、设于所述工件台干涉仪支架上的工件台测量干涉仪和物镜工件台参考干涉仪、以及设于所述投影物镜单元下方且与所述物镜工件台参考干涉仪对应的物镜工件台参考镜，所述物镜工件台参考干涉仪设于所述工件台测量干涉仪上方。

2.根据权利要求1所述的光刻机水平向测量装置，其特征在于，所述第一位置测量单元还包括设于所述掩模台干涉仪支架上的主基板掩模台参考干涉仪和设于所述主基板上且与所述主基板掩模台参考干涉仪对应的主基板掩模台参考镜，所述主基板掩模台参考干涉仪和所述物镜掩模台参考干涉仪具有水平向相同，垂向有高度差的位置关系。

3.根据权利要求1所述的光刻机水平向测量装置，其特征在于，所述第二位置测量单元还包括设于所述工件台干涉仪支架上的主基板工件台参考干涉仪和设于主基板上且与所述主基板工件台参考干涉仪对应的主基板工件台参考镜，所述主基板工件台参考干涉仪和物镜掩模台参考干涉仪和主基板掩模台参考干涉仪具有水平向相同，垂向有高度差的位置关系。

4.根据权利要求1所述的光刻机水平向测量装置，其特征在于，所述整机框架采用钢件制成，所述投影物镜单元采用陶瓷件材料框架制成。

5.根据权利要求1所述的光刻机水平向测量装置，其特征在于，所述第一位置测量单元包括固设于主支架上的掩模台干涉仪支架、设于所述掩模台干涉仪支架上的掩模台测量干涉仪和设于掩模台上的掩模台长条镜和角锥镜。

6.根据权利要求1所述的光刻机水平向测量装置，其特征在于，所述第二位置测量单元包括固设于主支架上的工件台干涉仪支架、设于所述工件台干涉仪支架上的工件台测量干涉仪和设于工件台上的工件台长条镜。

7.根据权利要求1所述的光刻机水平向测量装置，其特征在于，所述投影物镜单元下方还设有调焦调平传感器。

8.根据权利要求1所述的光刻机水平向测量装置，其特征在于，所述主支架设于主基板上。

9.一种如权利要求1所述的光刻机水平向测量装置的测量方法，其特征在于，通过所述第一位置测量单元和第二位置测量单元测量投影物镜单元相对所述主支架的倾角，所述物镜倾角补偿单元根据所述倾角计算工件台和掩模台之间的偏移量，移动掩模台和工件台进行补偿。

10.根据权利要求9所述的测量方法，其特征在于，还包括通过调焦调平传感器对工件台和掩模台进行水平向对准。