[发明专利]一种多嵌段聚氨酯形状记忆高分子材料及其制备方法

权利要求书

1.基于丙交酯和1,4-对二氧环己酮的多嵌段聚氨酯形状记忆高分子材料的合成方法，其合成包括以下两部分：

端羟基聚（丙交酯-co-1,4-对二氧环己酮）软段的制备：以辛酸亚锡为引发剂，小分子二醇为助引发剂，由丙交酯和1,4-对二氧环己酮在130-150℃下真空熔融开环聚合而成，反应时间8-36小时；其中，小分子二醇选自乙二醇、丁二醇、二乙醇胺或其他含两个羟基的小分子物质；调节小分子二醇的用量，以及丙交酯和1,4-对二氧环己酮的摩尔比，将端羟基聚（丙交酯-co-1,4-对二氧环己酮）软段的分子量调节在2000-20000之间；

多嵌段聚氨酯的制备：将端羟基聚（丙交酯-co-1,4-对二氧环己酮）与二异氰酸酯、辛酸亚锡按比例混合均匀后，先反应形成两端含异氰酸酯的预聚体，然后再加入小分子二醇或小分子二胺，制得基于丙交酯和1,4-对二氧环己酮的多嵌段聚氨酯形状记忆聚合物；二异氰酸酯与端羟基聚（丙交酯-co-1,4-对二氧环己酮）的摩尔用量之比控制在3:1-1.1：1，辛酸亚锡与端羟基聚（丙交酯-co-1,4-对二氧环己酮）的摩尔用量之比控制在0.001~0.01，而小分子二醇或小分子二胺的摩尔用量为二异氰酸酯摩尔用量的0.4~1.0。

2.如权利要求1所述的合成方法，其特征在于：所述二异氰酸酯的摩尔用量等于端羟基聚（丙交酯-co-1,4-对二氧环己酮）与小分子二醇或小分子二胺的摩尔用量之和。

3.如权利要求1所述的合成方法，其特征在于：所述二异氰酸酯的摩尔用量等于端羟基聚（丙交酯-co-1,4-对二氧环己酮）与小分子二醇或小分子二胺的摩尔用量之和，且二异氰酸酯的摩尔用量与端羟基聚的摩尔用量之比为2:1，二异氰酸酯的摩尔用量与小分子二醇或小分子二胺的摩尔用量之比为2:1。

4.如权利要求1、2或3所述的合成方法，其特征在于：所述二异氰酸酯选自脂肪族二异氰酸酯、芳香族二异氰酸酯、脂环族二异氰酸酯及其混合物。

5.如权利要求4所述的合成方法，其特征在于：所述脂肪族二异氰酸酯是1,6-六亚甲基二异氰酸酯、异佛尔酮二异氰酸酯或4,4’-二环己基甲烷二异氰酸酯；所述芳香族二异氰酸酯是4,4’-二苯基甲烷二异氰酸酯、甲苯二异氰酸酯或苯二亚甲基二异氰酸酯。

6.如权利要求5所述的合成方法，其特征在于：所述小分子二元醇是乙二醇、丙二醇或丁二醇；所述小分子二胺是乙二胺、丙二胺、丁二胺或己二胺。