[发明专利]用于确定光斑位置的方法和设备

权利要求书

1.一种用于确定光斑位置的方法，包括以下步骤：

测量针对照射在待测区域上的第一入射光束的第一反射光谱；

测量针对照射在所述待测区域上的第二入射光束的第二反射光谱，其中所述第一入射光束和所述第二入射光束的方位角相差180°；以及

如果所述第一反射光谱和所述第二反射光谱之间的差异小于预定阈值，则确定所述第一入射光束和所述第二入射光束在所述待测区域上的光斑中心处于所述待测区域的几何中心。

2.根据权利要求1所述的方法，还包括：

在测量之前确定所述待测区域的所述几何中心，以辅助所述第一入射光束的照射。

3.根据权利要求2所述的方法，其中在放大的视场中选出所述几何中心。

4.根据权利要求2所述的方法，其中通过所述待测区域的各个顶点的坐标来计算出所述几何中心。

5.根据权利要求1所述的方法，其中所述第一反射光谱和所述第二反射光谱之间的差异包括：

所述第一反射光谱和所述第二反射光谱之间的均方根差或拟合优度。

6.根据权利要求1所述的方法，还包括：

如果所述差异大于所述预定阈值，校正所述第一入射光束的照射；

重复执行根据权利要求1所述的步骤。

7.根据权利要求6所述的方法，其中校正所述第一入射光束的照射包括：

在相互垂直的两个方向上对所述待测区域进行扫描，测量一系列反射光谱；

比较所述一系列反射光谱的变化趋势；

基于所述一系列反射光谱的变化趋势，对所述第一入射光束的照射进行校正。

8.根据权利要求1所述的方法，其中所述反射光谱表示：反射率、偏振态变化、傅立叶系数、琼斯矩阵、或穆勒矩阵。

9.一种用于确定光斑位置的设备，包括：

第一测量装置，用于测量针对照射在待测区域上的第一入射光束的第一反射光谱；

第二测量装置，用于测量针对照射在所述待测区域上的第二入射光束的第二反射光谱，其中所述第一入射光束和所述第二入射光束的方位角相差180°；以及

第一确定装置，用于如果所述第一反射光谱和所述第二反射光谱之间的差异小于预定阈值，则确定所述第一入射光束和所述第二入射光束在所述待测区域上的光斑中心处于所述待测区域的几何中心。

10.根据权利要求9所述的设备，还包括：

第二确定装置，用于在测量之前确定所述待测区域的几何中心，以辅助所述第一入射光束的照射。

11.根据权利要求10所述的设备，其中所述第二确定装置在放大的视场中选出所述几何中心。

12.根据权利要求10所述的设备，其中所述第二确定装置通过所述待测区域的各个顶点的坐标来计算出所述几何中心。

13.根据权利要求9所述的设备，其中所述第一反射光谱和所述第二反射光谱之间的差异包括：

所述第一反射光谱和所述第二反射光谱之间的均方根差或拟合优度。

14.根据权利要求9所述的设备，还包括：

校正装置，用于如果所述差异大于所述预定阈值，校正所述第一入射光束的照射。

15.根据权利要求14所述的设备，其中所述校正装置包括：

扫描单元，用于在相互垂直的两个方向上对所述待测区域进行扫描，测量一系列反射光谱；

比较单元，用于比较所述一系列反射光谱的变化趋势；

校正单元，用于基于所述一系列反射光谱的变化趋势，对所述第一入射光束的照射进行校正。