[发明专利]压力加载膜

说明书

技术领域

本发明属于半导体工艺技术领域，具体而言，涉及一种压力加载膜。

背景技术

对于大尺寸的晶片(如直径300mm)的化学机械抛光技术，由于材料去除率的不均匀性明显，抛光头大多采用多区域压力调整技术，以提高晶片的平整度，抛光时各区域独立给压力，由于压力加载膜大多为柔性体，使得各个区域的压力会相互影响，为了解决该技术问题，相关技术中大多通过压力控制算法来稍微弥补区域压力耦合对抛光的影响，但是该方法的控制难度大，增加了控制的风险，存在改进空间。

发明内容

本发明旨在至少在一定程度上解决相关技术中的技术问题之一。为此，本发明的一个目的在于提出一种可以独立控制各个区域压力的压力加载膜。

根据本发明实施例的压力加载膜，包括：膜本体，所述膜本体包括多个相互隔绝开的子腔室，所述子腔室用于注入压力介质，以适于通过所述膜本体的加压面向样品加载压力；支撑骨架，所述支撑骨架设在所述膜本体内，且所述支撑骨架的弹性系数大于所述膜本体的弹性系数。

根据本发明实施例的压力加载膜，可以实现各个子腔室的压力独立加载，使得加压面的各个区域的压力加载稳定，不易产生压力耦合。

另外，根据本发明上述实施例的压力加载膜还可以具有如下附加的技术特征：

在本发明的一些优选的实施例中，所述膜本体包括：底壁，所述底壁的外表面形成所述加压面；周壁，所述周壁与所述底壁相连以限定出腔室，间隔壁，所述间隔壁与所述底壁相连，以将所述腔室分隔为多个所述子腔室。

优选地，所述周壁和所述间隔壁在所述底壁上的投影形成同心圆。

优选地，所述支撑骨架设在所述底壁、所述周壁和所述间隔壁中的至少一个内。

优选地，所述膜本体还包括：顶壁，所述顶壁与所述周壁及所述间隔壁相连且与所述底壁相对设置，所述顶壁上具有用于加载压力介质的通孔。

具体地，所述顶壁从所述周壁的顶端向内延伸，且从所述间隔壁的顶端向两侧延伸。

具体地，所述支撑骨架设在所述底壁、所述周壁、所述间隔壁和所述顶壁内。

可选地，所述支撑骨架形成为一体式。

在本发明的一些优选的实施例中，所述膜本体为橡胶件，所述支撑骨架为尼龙件。

在本发明的一些优选的实施例中，所述支撑骨架为膜状、条状或网状。

附图说明

本发明的上述和/或附加的方面和优点从结合下面附图对实施例的描述中将变得明显和容易理解，其中：

图1是根据本发明实施例的压力加载膜的结构示意图。

附图标记：

压力加载膜100，

膜本体10，底壁11，周壁12，间隔壁13，顶壁14，通孔15，加压面16，凸起部17，支撑骨架20，子腔室30。

具体实施方式

下面详细描述本发明的实施例，所述实施例的示例在附图中示出，其中自始至终相同或类似的标号表示相同或类似的元件或具有相同或类似功能的元件。下面通过参考附图描述的实施例是示例性的，旨在用于解释本发明，而不能理解为对本发明的限制。

在本说明书的描述中，参考术语“一个实施例”、“一些实施例”、“示例”、“具体示例”、或“一些示例”等的描述意指结合该实施例或示例描述的具体特征、结构、材料或者特点包含于本发明的至少一个实施例或示例中。在本说明书中，对上述术语的示意性表述不必须针对的是相同的实施例或示例。而且，描述的具体特征、结构、材料或者特点可以在任一个或多个实施例或示例中以合适的方式结合。此外，在不相互矛盾的情况下，本领域的技术人员可以将本说明书中描述的不同实施例或示例以及不同实施例或示例的特征进行结合和组合。

下面将参考附图并结合实施例来详细说明本发明。

压力加载膜100可以用于化学机械抛光设备中的抛光头，用于向待抛光的晶圆样品加载压力。

如图1所示，压力加载膜100包括膜本体10和支撑骨架20。

其中，膜本体10包括多个相互隔绝开的子腔室30，子腔室30用于注入压力介质，以适于通过膜本体10的加压面16向样品加载压力，压力介质可以为空气，膜本体10可以为柔性材料制成，比如膜本体10可以为橡胶件。

支撑骨架20设在膜本体10内，且支撑骨架20的弹性系数大于膜本体10的弹性系数，支撑骨架20可以为尼龙件，支撑骨架20可以为膜状、条状或网状等。