[发明专利]磁盘装置和头位置的校正方法有效

专利信息
申请号: 201610809063.0 申请日: 2016-09-07
公开(公告)号: CN107180646B 公开(公告)日: 2019-05-07
发明(设计)人: 田上尚基 申请(专利权)人: 株式会社东芝
主分类号: G11B5/596 分类号: G11B5/596
代理公司: 北京市中咨律师事务所 11247 代理人: 刘静;段承恩
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 磁盘 装置 位置 校正 方法
【权利要求书】:

1.一种磁盘装置,其中,具备:

盘,其具有包括多个伺服扇区的磁道;

头,其对所述盘执行数据的写入处理和读取处理;以及

控制器,

所述控制器,

从所述磁道的磁道中心取得针对第1方向的可重复性偏摆的第1校正数据、和针对与所述第1校正数据不同的可重复性偏摆的第2校正数据,

在从所述磁道中心朝向所述第1方向设定的第1允许范围内,向所述多个伺服扇区中的第1伺服扇区写入所述第1校正数据,在包含所述第1允许范围和第2允许范围的写入允许范围内,向与所述第1伺服扇区不同的第2伺服扇区写入所述第2校正数据,所述第2允许范围是从所述磁道中心朝向与所述第1方向相反侧的第2方向设定的允许范围,

读取所述第1校正数据和所述第2校正数据的至少一方,将所述头的位置校正成位于所述写入允许范围内。

2.根据权利要求1所述的磁盘装置,其中,

所述控制器从所述磁道中心取得所述第2方向的所述第2校正数据,在所述第2允许范围内,在所述磁道向与所述第1伺服扇区相邻的所述第2伺服扇区写入所述第2校正数据。

3.根据权利要求2所述的磁盘装置,其中,

所述控制器以使能够由所述头读取的所述第1校正数据的第1读取宽度的中心位置配置在所述第1允许范围内的方式,写入所述第1校正数据,以使能够由所述头读取的所述第2校正数据的第2读取宽度的中心位置配置在所述第2允许范围内的方式,写入所述第2校正数据。

4.根据权利要求3所述的磁盘装置,其中,

所述控制器在所述第1允许范围内,以能够由所述头读取的方式,写入所述第1读取宽度比所述第1允许范围大的所述第1校正数据,在所述第2允许范围内,以能够由所述头读取的方式,写入所述第2读取宽度比所述第2允许范围大的所述第2校正数据。

5.根据权利要求3所述的磁盘装置,其中,

所述控制器在所述第1允许范围内,以使所述第1读取宽度的中心位置配置在第1区域的方式写入所述第1校正数据,在所述第2允许范围内,以使所述第2读取宽度的中心位置配置在第2区域的方式写入所述第2校正数据,所述第1区域是从所述磁道中心起到与所述磁道中心的距离为所述第1读取宽度的一半大小的值的位置为止的区域,所述第2区域是从所述磁道中心起到与所述磁道中心的距离为所述第2读取宽度的一半大小的值的位置为止的区域。

6.根据权利要求5所述的磁盘装置,其中,

所述控制器根据测定值分布与预测值分布的差分来算出校正误差,求出所述校正误差的平方和最小的所述第1区域的第1位置和所述第2区域的第2位置,以使所述第1读取宽度的中心位置配置在所述第1位置的方式写入所述第1校正数据,以使所述第2读取宽度的中心位置配置在所述第2位置的方式写入所述第2校正数据,所述测定值分布是在所述写入允许范围对用于校正可重复性偏摆的校正值进行了测定而得到的分布,所述预测值分布是根据所述第1校正数据和所述第2校正数据算出的所述写入允许范围的所述校正值的分布。

7.根据权利要求3所述的磁盘装置,其中,

所述控制器在所述写入允许范围内,以能够由所述头读取的方式写入所述第1读取宽度比所述写入允许范围大的所述第1校正数据,在所述写入允许范围内,以能够由所述头读取的方式写入所述第2读取宽度比所述写入允许范围大的所述第2校正数据。

8.根据权利要求7所述的磁盘装置,其中,

所述控制器算出所述第1读取宽度的一半大小的值与所述第1允许范围的大小的值的第1差值,在所述第1允许范围内,以使所述第1读取宽度的中心位置配置在第3区域的方式写入所述第1校正数据,所述第3区域是从所述磁道中心起到与所述磁道中心的距离为所述第1差值的位置为止的区域,

算出所述第2读取宽度的一半大小的值与所述第2允许范围的大小的值的第2差值,在所述第2允许范围内,以使所述第2读取宽度的中心位置配置在第4区域的方式写入所述第2校正数据,所述第4区域是从所述磁道中心起到与所述磁道中心的距离为所述第2差值的位置为止的区域。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于株式会社东芝,未经株式会社东芝许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201610809063.0/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top