[发明专利]处理盒的显影仓及其除粉方法在审
申请号: | 201610807725.0 | 申请日: | 2016-09-07 |
公开(公告)号: | CN107305340A | 公开(公告)日: | 2017-10-31 |
发明(设计)人: | 李海卡;倪明;田茂龙;曹建新 | 申请(专利权)人: | 纳思达股份有限公司 |
主分类号: | G03G21/18 | 分类号: | G03G21/18;G03G15/08;G03G21/00 |
代理公司: | 北京汇思诚业知识产权代理有限公司11444 | 代理人: | 王刚,龚敏 |
地址: | 519060 广东省珠海市香洲区珠海大道3883号01栋*** | 国省代码: | 广东;44 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 处理 显影 及其 方法 | ||
1.一种处理盒的显影仓,所述显影仓设有可与处理盒中的粉仓连通的通口,其特征在于:
在沿所述显影仓的长度方向的显影仓仓壁上设置有预移除区,所述预移除区用于在处理盒进行打印全检后将该预移除区移除并形成用于清除显影仓内余粉的除粉开口。
2.根据权利要求1所述的处理盒的显影仓,其特征在于:所述预移除区的厚度薄于与之邻接的显影仓仓壁的壁厚和/或该预移除区的材料与与之邻接的显影仓仓壁的材料不同使其便于移除。
3.根据权利要求2所述的处理盒的显影仓,其特征在于:所述预移除区沿显影仓的长度方向设置在显影仓的仓壁底部。
4.根据权利要求2所述的处理盒的显影仓,其特征在于:所述预移除区沿显影仓的长度方向设置在显影仓的仓壁顶部。
5.根据权利要求2所述的处理盒的显影仓,其特征在于:所述预移除区为薄片体结构,所述薄片体的厚度在显影仓仓壁上薄于与之邻接的显影仓仓壁的壁厚。
6.根据权利要求5所述的处理盒的显影仓,其特征在于:所述薄片体在显影仓仓壁上可设为多个。
7.根据权利要求2所述的处理盒的显影仓,其特征在于:所述预移除区的材料软于与之邻接的显影仓仓壁的材料。
8.根据权利要求2所述的处理盒的显影仓,其特征在于:所述预移除区的材料的抗冲击强度低于与之邻接的显影仓仓壁的材料的抗冲击强度。
9.根据权利要求2所述的处理盒的显影仓,其特征在于:所述预移除区与显影仓通过一次或二次注塑成型。
10.根据权利要求2所述的处理盒的显影仓,其特征在于:该形成的除粉开口为预设在显影仓仓壁上,所述预移除区为通过片体贴附在显影仓仓壁上且覆盖所述预设的除粉开口。
11.根据权利要求10所述的处理盒的显影仓,其特征在于:该片体为金属片体或胶条。
12.根据权利要求1所述的处理盒的显影仓,其特征在于:所述预移除区为片体或移除块,所述片体或移除块与所述显影仓并非同时注塑形成。
13.根据权利要求1或12所述的处理盒的显影仓,其特征在于:所述预移除区为移除块,所述移除块的材料硬度或/和材料熔点与所述显影仓的不同。
14.根据权利要求13所述的处理盒的显影仓,其特征在于:所述移除块设有凸起部,所述凸起部凸出于显影仓的外表面。
15.根据权利要求13所述的处理盒的显影仓,其特征在于:所述移除块为圆形块体或方形块体。
16.一种处理盒的显影仓的除粉方法,所述处理盒的显影仓为上述权利要求1至15中任意一种处理盒的显影仓,其特征在于:
所述处理盒的显影仓的除粉方法包括如下步骤:
A.在完成处理盒的打印全检后,对显影仓上的预移除区进行移除并形成除粉开口;
B.通过该除粉开口对显影仓内的余粉进行清除;
C.在显影仓内的余粉清除后,对除粉开口进行密封处理。
17.如权利要求16的处理盒的显影仓的除粉方法,其特征在于:在步骤C中,通过粘附密封件对所述除粉开口进行密封或通过塑料片体焊接覆盖在所述除粉开口上进行密封。
18.如权利要求16或17的处理盒的显影仓的除粉方法,其特征在于:所述预移除区为薄片体结构且所述薄片体的厚度在显影仓仓壁上薄于与之邻接的显影仓仓壁的壁厚;在步骤A中,对显影仓上的预移除区进行移除为将该薄片体捅穿或切除并形成该除粉开口。
19.如权利要求16或17的处理盒的显影仓的除粉方法,其特征在于:所述预移除区为通过片体贴附在显影仓仓壁上且覆盖预设的除粉开口,在步骤A中,对显影仓上的预移除区进行移除为通过拉动该片体的作用部使该片体与显影仓的仓壁分离最后显露出预设的除粉开口。
20.如权利要求16或17的处理盒的显影仓的除粉方法,其特征在于:在步骤B中,所述通过该除粉开口对显影仓内的余粉进行清除为使用吹气或吸气的方式对显影仓内的余粉进行清除。
21.如权利要求16或17的处理盒的显影仓的除粉方法,其特征在于:所述预移除区为移除块,在步骤A中,对显影仓上的预移除区进行移除为通过移除该移除块最后在显影仓上形成除粉开口。
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