[发明专利]集成电路结构

说明书

技术领域

本发明是有关于一种集成电路技术，且特别是有关于一种利用电流校准电路所产生的偏压电流来取代参考电流的集成电路结构。

背景技术

集成电路中需要一个稳定的参考电流，藉以确保同一个集成电路中各个核心电路或硅智产(Silicon Intellectual Property，SIP，简称IP)元件的操作稳定度。一般的集成电路可透过带差参考电路(bandgap reference circuit)产生参考电压，透过集成电路的接脚外接准确外部电阻，藉以产生准确的参考电流。

然而，虽然带差参考电路位于集成电路内部，但是带差参考电路与各个核心电路或硅智产元件之间的电流路径可能会受到杂讯的干扰，使得参考电流还是可能因干扰而发生抖动，导致讯号效能降低。各个硅智产元件的电源端/接地端杂讯也会对电流路径产生干扰。此外，集成电路必须耗费额外的接脚连接外部电阻方能产生参考电流。外部杂讯也可能透过耦合至外部电阻接脚进而影响参考电流的品质。因此，如何产生准确且干净的参考电流，便成为集成电路厂商所必须面对的课题。

发明内容

本发明提供一种集成电路结构，其藉由电流校准电路所产生的偏压电流来取代原先的参考电流，以获得稳定且不受杂讯干扰的电流信号。

本发明的集成电路结构包括参考电路以及至少两个核心电路。参考电路产生参考电流。至少两个核心电路耦接所述参考电路以接收所述参考电流。所述核心电路包括电流校准电路。电流校准电路依据所述参考电流产生位于所述核心电路中的偏压电流。所述核心电路使用所述偏压电流来取代所述参考电流。在所述集成电路结构于测试阶段时，所述参考电路透过所述集成电路结构的接脚电性连接至外部阻抗来产生所述参考电流，且在所述测试阶段后，断开所述参考电路与所述集成电路结构的所述接脚之间的连接。

在本发明的一实施例中，上述的电流校准电路包括电压产生器、电流产生器、数字控制电流镜以及电流比较器。电压产生器用以产生内部参考电压。电流产生器耦接所述电压产生器，电流产生器依据所述内部参考电压产生内部参考电流。数字控制电流镜耦接所述电流产生器，数字控制电流镜依据所述内部参考电流产生校正电流。电流比较器耦接所述数字控制电流镜。电流比较器用以比较所述参考电流以及所述校正电流。在所述电流校准电路启动时，所述数字控制电流镜调整所述校正电流的电流值。所述数字控制电流镜依据所述电流比较器判断所述校正电流与所述参考电流的比较结果产生所述偏压电流，其中所述偏压电流的电流值与所述参考电流的当前电流值相同。

基于上述，本发明实施例所述的集成电路结构在每个核心电路中设置电流校准电路，让这些核心电路能够藉由参考电流来产生由电流校准电路所产生的偏压电流，并取代原先带差参考电路所产生的参考电流。本发明实施例的集成电路所产生的参考电流除了不受到绝对温度变动以及系统电压变动的影响而产生改变之外，还可以消除制程的偏移，获得稳定且不受杂讯干扰的参考电流。再者，本发明实施例所述的集成电路结构可在测试阶段后将外部阻抗移除或将接脚转移给其他数字电路使用，藉此便可减少集成电路的接脚使用数量，节省电路面积。

为让本发明的上述特征和优点能更明显易懂，下文特举实施例，并配合所附图式作详细说明如下。

附图说明

图1是依照本发明的第一实施例的集成电路结构的示意图。

图2是依照本发明的第一实施例的电流校准电路的方块图。

图3是依照本发明的第二实施例的集成电路结构的示意图。

图4是依照本发明的第三实施例的集成电路结构的示意图。

附图说明

100、300、400：集成电路结构

110：参考电路

120-1：第一核心电路

120-2：第二核心电路

130：集成电路结构的接脚

140：开关

CC1/CC2、CC1、CC2：电流校准电路

210：电压产生器

220：电流产生器

230：数字控制电流镜

240：电流比较器

250：电压比较器

340：多路复用器

350：其他电路

360：参考电流产生器

470：第二电流校准电路

480：分配电流镜

Iref：参考电流

Im1、Im2：镜像电流

I1：第一电流

Vref：参考电压