[发明专利]散射装置及其制造方法及发光装置、投影系统与照明系统

权利要求书

1.一种散射装置，其特征在于，包括：

透明无机物基底，包括相对的第一表面与第二表面，第二表面的至少部分为粗糙面，该粗糙面具有多个微型凹陷；

覆盖所述粗糙面的过渡介质，包括相对的第三表面和第四表面，第三表面与所述粗糙面紧密接触以形成过渡介质-基底界面，所述过渡介质的折射率满足：

；或，

；

所述基底的微型凹陷的倾斜角为，所述基底的折射率为，所述过渡介质的折射率为。

2.根据权利要求1所述的散射装置，其特征在于：，度，且。

3.根据权利要求1或2所述的散射装置，其特征在于：所述过渡介质的第四表面为一平面或弧面。

4.根据权利要求1或2所述的散射装置，其特征在于：所述透明无机物为玻璃，所述过渡介质为无机胶质或有机胶质。

5.一种发光装置，其特征在于，包括发光源和如权利要求1至4中任一项所述的散射装置；

所述发光源发出的光束入射于所述散射装置，且该光束入射在所述散射装置上的光斑覆盖所述过渡介质。

6.一种投影系统，其特征在于，包括如权利要求5所述的发光装置。

7.一种照明系统，其特征在于，包括如权利要求5所述的发光装置。

8.一种散射装置的制造方法，其特征在于，包括：

步骤一、提供一透明无机物基底，该基底包括相对的第一表面与第二表面，第二表面的至少部分为粗糙面，该粗糙面具有多个微型凹陷；

步骤二、在所述粗糙面上涂覆液态的过渡介质，使得该过渡介质覆盖该粗糙面，以使得过渡介质包括第三表面，第三表面与所述粗糙面紧密接触以形成过渡介质-基底界面，所述过渡介质的折射率满足：

；或，

；

所述基底的微型凹陷的倾斜角为，所述基底的折射率为，所述过渡介质的折射率为；

步骤三、固化所述过渡介质。

9.根据权利要求8所述的制造方法，其特征在于，步骤二包括：采用旋涂法、提拉法或印刷法在所述粗糙面上涂覆液态的过渡介质。

10.根据权利要求8或9所述的制造方法，其特征在于：在步骤二与步骤三之间还包括：将所述基底的第二表面向上且平置，使所述液态的过渡介质在重力作用下流平。