[发明专利]一种硅块清洗烘干装置

权利要求书

1.一种硅块清洗烘干装置，其特征在于，包括：

清洗单元，其用于对破碎完成后的硅块表面进行清洗处理；

烘干单元，其用于对清洗完成后的硅块进行烘干处理；

冷却单元，其用于对烘干完成后的硅块进行冷却处理；以及，

料篮，所述硅块置于所述料篮中；

所述清洗单元包括三个清洗槽，分别为第一清洗槽、第三清洗槽和第四清洗槽，每个清洗槽中均设置有清洗介质和能够通过槽壁将超声波辐射至槽内清洗介质的超声波清洗器，用以通过超声波清洗硅块表面；盛放有硅块的料篮依次经过第一清洗槽、第三清洗槽和第四清洗槽的清洗后进入烘干单元；

所述清洗单元还包括脱水槽和热风风切子单元，依次经过第一清洗槽、第三清洗槽和第四清洗槽清洗后的所述料篮进入脱水槽，所述热风风切子单元用于将压缩空气加热到预设温度后对进入脱水槽内的所述料篮进行往复式吹扫，以对所述料篮内的硅块进行初步干燥，经吹扫后的所述料篮进入烘干单元；

所述热风风切子单元包括压缩空气管、控制模块、移动模块和加热包；所述压缩空气管上开设有预设数量的孔，且每个开孔处安装有一个扇形风嘴；所述加热包用于加热压缩空气；所述控制模块用于控制移动模块按照预设轨迹移动，所述预设轨迹为上、下移动往复式扫描；所述移动模块用于在控制模块的控制下带动呈水平状态的压缩空气管按照预设轨迹移动，以使得经过加热包加热至预设温度的压缩空气从压缩空气管上的扇形喷嘴喷出，从而对料篮内的硅块进行往复式吹扫。

2.根据权利要求1所述的装置，其特征在于，还包括输送单元，其用于将盛放有硅块的料篮从硅破碎系统料道传输至清洗单元入口，以及将清洗完成后的所述料篮从清洗单元出口传输至烘干单元入口，且依次经烘干单元内部、冷却单元内部后传输至包装区料道。

3.根据权利要求1所述的装置，其特征在于，所述清洗单元还包括第二清洗槽，其内设置有弱酸溶液，用以通过弱酸溶液清洗硅块表面；盛放有硅块的料篮依次经过第一至第四清洗槽的清洗后进入烘干单元。

4.根据权利要求1所述的装置，其特征在于，所述清洗单元还包括清洗介质补充子单元和溢流管道，所述清洗介质补充子单元用于持续向第一清洗槽、第三清洗槽和第四清洗槽内补充清洗介质，而从第四清洗槽顶部溢出的清洗介质通过溢流管道溢流至第三清洗槽，从第三清洗槽顶部溢出的清洗介质通过溢流管道溢流至第一清洗槽，从第一清洗槽顶部溢出的清洗介质经废液槽暂存后通过排污泵排放至下游硅粉沉淀处理工序。

5.根据权利要求1所述的装置，其特征在于，所述烘干单元包括中空的壳体和设置于壳体内的微波发生器，所述微波发生器用于向进入壳体内的硅块发射微波，以提高硅块表面的温度。

6.根据权利要求5所述的装置，其特征在于，所述烘干单元还包括真空泵，其用于将所述壳体抽真空。

7.根据权利要求5所述的装置，其特征在于，所述烘干单元还包括设置于壳体内的蒸汽加热器，其用于通过蒸汽对壳体内的硅块进行加热，以保持硅块表面的温度。

8.根据权利要求1～7中任一项所述的装置，其特征在于，所述冷却单元具体用于采用压缩空气对烘干完成后的硅块表面进行降温处理。