[发明专利]一种光刻机之照明光瞳均一性补偿装置及其补偿方法有效

专利信息
申请号: 201610318449.1 申请日: 2016-05-13
公开(公告)号: CN105739250B 公开(公告)日: 2017-10-27
发明(设计)人: 张浩;谢华;朱克俭 申请(专利权)人: 上海华力微电子有限公司
主分类号: G03F7/20 分类号: G03F7/20
代理公司: 上海思微知识产权代理事务所(普通合伙)31237 代理人: 智云
地址: 201203 上海市*** 国省代码: 上海;31
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摘要:
搜索关键词: 一种 光刻 明光 均一 补偿 装置 及其 方法
【说明书】:

技术领域

发明涉及半导体制造技术领域,尤其涉及一种光刻机之照明光瞳均一性补偿装置及其补偿方法。

背景技术

目前,在半导体光刻领域,光刻机的照明光瞳均一性系通过自动光瞳补偿滤片(Auto Pupil Compensation Filter,Auto PCF)进行补偿,其功能是调整照明光瞳在X、Y方向上的四个位置之光亮均一性。

作为本领域技术人员,不难知道地,在补偿过程中,机械自动根据光瞳光亮的大小选择合适的滤片,以调整Ia、Ib、Ic、Id的光亮,具体为根据X、Y、XY的以下公式来判断光瞳均一性是否满足要求:

X={|Ic-Id|/(Ic+Id)}×100%

Y={|Ia-Ib|/(Ia+Ib)}×100%

XY={|(Ia+Ib)-(Ic+Id)×Rxy|/((Ia+Ib)+(Ic+Id)×Rxy)}×100%

但是,上述补偿结构具有如下缺点:每个滤片安装后仅能补偿X左右或者Y上下的光亮,如果X左右或者Y上下需要的滤片仅是存在角度差时,则一套补正机构需要同时安装两个同样的滤片,将占用两个滤片槽的位置。

故针对现有技术存在的问题,本案设计人凭借从事此行业多年的经验,积极研究改良,于是有了本发明一种光刻机之照明光瞳均一性补偿装置及其补偿方法。

发明内容

本发明是针对现有技术中,现有补偿结构的每个滤片安装后仅能补偿X左右或者Y上下的光亮,如果X左右或者Y上下需要的滤片仅是存在角度差时,则一套补正机构需要同时安装两个同样的滤片,将占用两个滤片槽的位置等缺陷提供一种光刻机之照明光瞳均一性补偿装置。

本发明之第二目的是针对现有技术中,现有补偿结构的每个滤片安装后仅能补偿X左右或者Y上下的光亮,如果X左右或者Y上下需要的滤片仅是存在角度差时,则一套补正机构需要同时安装两个同样的滤片,将占用两个滤片槽的位置等缺陷提供一种光刻机之照明光瞳均一性补偿装置的补偿方法。

为实现本发明之目的,本发明提供一种光刻机之照明光瞳均一性补偿装置,所述光刻机之照明光瞳均一性补偿装置,包括:滤片槽轮盘,所述滤片槽轮盘上呈圆周间隔设置滤片槽;锁固部件,所述锁固部件之外圈设置卡口,并通过设置在所述卡口内的定位栓固定设置在所述滤片槽轮盘之滤片槽内,且在所述锁固部件之外周上设置齿轮牙纹;补偿滤片,所述补偿滤片固定设置在所述锁固部件内圈;主动齿轮,所述主动齿轮之齿轮与所述锁固部件之外周上的齿轮牙纹相啮合,并通过联轴器在所述驱动电机的作用下进行转动。

可选地,所述锁固部件之外圈设置的卡口数量为4个。

可选地,所述锁固部件之外圈设置的卡口在X方向和Y方向上互成90°。

可选地,所述滤片槽轮盘上设置的滤片槽之数量为12个。

可选地,所述滤片槽内设置的补偿滤片具有不同的光学透过率。

为实现本发明之又一目的,本发明提供一种光刻机之照明光瞳均一性补偿装置的补偿方法,所述光刻机之照明光瞳均一性补偿装置的补偿方法,包括:当所述滤片槽转到补偿位置,且不需要改变补偿滤片90°位置时,通过所述定位栓将所述锁固部件固定设置在所述滤片槽轮盘之滤片槽处;当所述滤片槽转到补偿位置,且需要改变补偿滤片90°位置时,所述定位栓退避卡口,并在所述驱动电机的作用下旋转90°后再次回归卡口,实现锁固。

可选地,所述定位栓退避卡口和回归卡口的动作均通过压力气缸控制。

可选地,当所述压力气缸充满压缩干燥空气时,所述定位栓退避卡口;当所述压力气缸释放压缩空气时,所述定位栓回归卡口。

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