[发明专利]掩膜板、蒸镀装置及蒸镀方法在审
| 申请号： | 201610242604.6 | 申请日： | 2016-04-19 |
| 公开（公告）号： | CN105714249A | 公开（公告）日： | 2016-06-29 |
| 发明（设计）人： | 薛丽红;康润芳 | 申请（专利权）人： | 上海和辉光电有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/04 | 分类号： | C23C14/04;C23C14/24;C23C14/12 |
| 代理公司： | 上海申浩律师事务所 31280 | 代理人： | 乐卫国 |
| 地址： | 201506 *** | 国省代码： | 上海;31 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 掩膜板 装置 方法 | ||
1.一种掩膜板，包括掩膜板本体，所述掩膜板本体上设置有通孔，其特征在于，所述掩膜板本体的第一表面上未设置所述通孔处设置有凹槽。
2.根据权利要求1所述的掩膜板，其特征在于，所述凹槽为岛状分布。
3.根据权利要求2所述的掩膜板，其特征在于，所述凹槽垂直于所述掩膜板本体方向的截面为方形。
4.根据权利要求2所述的掩膜板，其特征在于，所述凹槽垂直于所述掩膜板本体方向的截面为弧形槽。
5.根据权利要求2所述的掩膜板，其特征在于，所述凹槽垂直于所述掩膜板本体方向的截面为倒梯形槽。
6.根据权利要求1所述的掩膜板，其特征在于，所述凹槽为条状。
7.一种蒸镀装置，包括如权1至权6任一项所述的掩膜板。
8.一种蒸镀方法，其特征在于，包括如下步骤：
提供一如权1至权6任一项所述的掩膜板；
提供一待成膜基板，所述基板包括待成膜区域及多个凸起；
所述待成膜基板与所述掩膜板平行设置并对位，使所述基板的所述待成膜区域对应所述掩膜板的所述通孔，所述基板的凸起对应所述掩膜板的所述凹槽；以及
沿垂直于掩膜板方向移动所述待成膜基板，使所述待成膜基板靠近所述掩膜板至所述凸起插入所述凹槽。
9.根据权利要求8所述的蒸镀方法，其特征在于，还包括：提供一蒸镀源，所述蒸镀源与所述掩膜板相对设置并位置固定。
10.根据权利要求8所述的蒸镀方法，其特征在于，所述凸起为光阻隔离柱。
11.根据权利要求8所述的蒸镀方法，其特征在于，所述凹槽的深度大于或等于所述基板的凸起高度。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于上海和辉光电有限公司，未经上海和辉光电有限公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201610242604.6/1.html，转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇：递归泵送构件
- 下一篇：真空脉冲渗碳马氏体不锈钢的方法
- 同类专利
- 专利分类
