[发明专利]用于优化标准单元的可制造性的方法和系统

说明书

本发明提供一种用于优化标准单元的可制造性的方法和系统，所述方法包括：为标准单元创建随机的背景环境；将通孔插入到所述标准单元中；以及对插入通孔后的标准单元进行光刻验证。本发明所提供的用于优化标准单元的可制造性的方法和系统可以用于及早检测和解决标准单元引脚连线上的潜在热点，减少在芯片级上由布线器引入的热点，减少物理工程师为解决热点所花费的精力，从而缩短设计流片循环时间。

技术领域

本发明涉及半导体技术领域，具体而言涉及一种用于优化标准单元的可制造性的方法和系统。

背景技术

随着数字集成电路设计的进步，标准单元库的设计也在不断更新发展。在纳米工艺阶段，集成电路制造阶段遇到了很多可制造性问题，而在芯片设计的过程中也同样遇到一些问题，最终影响芯片的良率。因此，为了更好地支撑集成电路设计流程，对标准单元库进行可制造性优化是一个关键的步骤。

在现有的标准单元物理实现流程中，工程师仅可对标准单元本身做光刻仿真检查，不能在标准单元用于做物理实现之后预测光刻热点。在物理实现中，布线器将通孔(via)单元加在标准单元引脚以连接单元，其可能创建难以解决的光刻热点。对于单元引脚连线上发生的热点，物理工程师需花费大量的时间和精力来解决。

发明内容

针对现有技术的不足，一方面，本发明提供一种用于优化标准单元的可制造性的方法，所述方法包括：为标准单元创建随机的背景环境；将通孔插入到所述标准单元中；以及对插入通孔后的标准单元进行光刻验证。

在本发明的一个实施例中，所述方法还包括：在为标准单元创建随机的背景环境之前，从原始版图库(GDS)中提取所有标准单元，并标记出用于每个标准单元的引脚连线(pin net)。

在本发明的一个实施例中，所述为标准单元创建随机的背景环境进一步包括：将所述所有标准单元布局在一个版图库中。

在本发明的一个实施例中，所述将通孔插入到所述标准单元中进一步包括：针对所有可用的通孔生成通孔插入规则并根据设计规则将通孔布局在所述标准单元的引脚连线上。

在本发明的一个实施例中，所述将通孔插入到所述标准单元中进一步包括：基于不同的布线方式应用不同的通孔插入规则。

在本发明的一个实施例中，所述所有可用的通孔从工艺文件库(technology.lef)中选择得来。

另一方面，本发明还提供一种用于优化标准单元的可制造性的系统，所述系统包括：环境生成模块，用于为标准单元创建随机的背景环境；通孔插入模块，用于将通孔插入到所述标准单元中；以及光刻验证模块，用于对插入通孔后的标准单元进行光刻验证。

在本发明的一个实施例中，所述系统还包括单元提取和引脚连线创建模块，用于从原始版图库中提取所有标准单元并标记出用于每个标准单元的引脚连线。

在本发明的一个实施例中，所述环境生成模块进一步用于将所述所有标准单元布局在一个版图库中。

在本发明的一个实施例中，所述通孔插入模块进一步用于针对所有可用的通孔生成通孔插入规则并根据设计规则将通孔布局在所述标准单元的引脚连线上。

在本发明的一个实施例中，所述通孔插入模块进一步用于基于不同的布线方式应用不同的通孔插入规则。

在本发明的一个实施例中，所述系统还包括通孔生成模块，用于从工艺文件库中选择所有可用的通孔。

本发明所提供的用于优化标准单元的可制造性的方法和系统可以用于及早检测和解决标准单元引脚连线上的潜在热点，减少在芯片级上由布线器引入的热点，减少物理工程师为解决热点所花费的精力，从而缩短设计流片(tape-out)循环时间。

附图说明