[发明专利]一种暗挖浅覆大断面隧道施工方法

说明书

技术领域

本发明涉及一种隧道工程领域，特别涉及一种暗挖浅覆大断面隧道施工方法。

背景技术

地下隧道暗挖施工过程中，对于地层的扰动，原有土体的状态失去平衡、对隧道的沉降与收敛造成影响，若遇覆土较浅地带、稳定性较差土质，开挖极易造成塌方、涌水、地表沉降等情况，造成地面塌陷；特别是近年来城市地铁建设过程中遇到地铁隧道拱顶与地下埋有的各种管道距离极近，且部分排水管漏水渗水，在管道周边形成空洞、水囊，会直接软化开挖掌子面土体，造成开挖掌子面片土、坍塌，在开挖掌子面穿越水囊时会造成掌子面涌水、涌泥。

现有地下隧道暗挖施工多采用盾构法、CD法(中隔墙法)、CRD法(交叉中隔墙法)等，但是盾构法对地下隧道断面尺寸多变的区段适应能力差、并且盾构机造价昂贵提高工程成本，CD法或者CRD法工序繁多复杂，临时支护(10)的施作和拆除困难，工期进度慢，成本也比较高。

发明内容

本发明的目的在于克服现有技术中所存在的盾构法对地下隧道断面尺寸多变的区段适应能力差、并且盾构机造价昂贵提高工程成本，CD法或者CRD法工序繁多复杂，工期进度慢，成本也比较高的上述不足，提供一种有效应对浅覆暗埋管线漏水渗水引起的开挖掌子面土体松动流失等工况的暗挖浅覆大断面隧道施工方法。

为了实现上述发明目的，本发明提供了以下技术方案：

一种暗挖浅覆大断面隧道施工方法，包括以下步骤：

a、开挖前对开挖区域进行封闭降水；

b、测量放样将隧道断面规划为左上洞室、左下洞室、右上洞室、右下洞室、中上洞室和中下洞室；

c、在所述左上洞室和右上洞室拱顶设置超前小导管或者大管棚，所述超前小导管或者大管棚预注浆，先开挖所述左上洞室和右上洞室，后开挖所述左下洞室和右下洞室，开挖后设置初期支护和临时支护，采用锁脚锚管加固所述初期支护和临时支护墙脚；

d、在所述中上洞室拱顶设置所述超前小导管或者大管棚，所述超前小导管或者大管棚预注浆，依次开挖所述中上洞室和中下洞室并设置所述初期支护和所述临时支护，采用所述锁脚锚管加固所述初期支护墙脚；

e、在所述初期支护背后注浆，逐步拆除所述左下洞室、右下洞室和中下洞室的所述临时支护并施作防水层，然后沿边墙施作二次衬砌并预留钢筋及防水板接头；

f、逐步拆除剩余所述临时支护，施作所述左上洞室、右上洞室和中上洞室的防水层并沿边墙施作所述二次衬砌，使所述二次衬砌封闭成环，然后在所述二次衬砌背后注浆。

采用本发明所述的暗挖浅覆大断面隧道施工方法，将大断面分隔成小断面闭环施工，对每一个小断面加强支护，最终对整个断面闭环支护，能够有效应对浅覆暗埋管线漏水渗水引起的开挖掌子面土体松动流失等工况，同时各工序衔接紧密，相对CD法或者CRD法临时支护(10)的施作和拆除容易，对整个断面的沉降变形控制好，工期进度快，相对盾构法能够适应断面尺寸多变的区段，同时大大降低工程成本。

优选地，在所述步骤c中，所述左上洞室的掌子面较所述左下洞室的掌子面超前距离为L₁，其值为3-5m，所述右上洞室的掌子面较所述右下洞室的掌子面超前距离为L₂，其值为3-5m。

优选地，在所述步骤c中，所述左上洞室的掌子面较所述右上洞室的掌子面超前距离为L₃，其值为10-15m。

优选地，在所述步骤d中，所述中上洞室的掌子面较所述中下洞室的掌子面超前距离为L₄，其值为3-5m。

优选地，在所述步骤c和步骤d中，所述右上洞室的掌子面较所述中上洞室的掌子面超前距离为L₅，其值为10-15m。

优选地，所述隧道断面拱顶设置所述超前小导管或者大管棚的角度为γ，其值为130°-150°。

优选地，所述超前小导管或者大管棚的外插角度为θ，其值为0°-10°。

优选地，所述超前小导管或者大管棚为无缝钢管。

优选地，在所述步骤e中，所述初期支护背后注浆采用在所述初期支护侧壁钻孔插入注浆小导管并注浆。

优选地，在所述步骤f中，所述二次衬砌背后注浆采用在所述二次衬砌侧壁钻孔插入注浆小导管并注浆。

与现有技术相比，本发明的有益效果：