[发明专利]玻璃表面缺陷检测装置在审

专利信息
申请号: 201610141355.1 申请日: 2016-03-11
公开(公告)号: CN105738384A 公开(公告)日: 2016-07-06
发明(设计)人: 伍祥辰 申请(专利权)人: 伍祥辰
主分类号: G01N21/958 分类号: G01N21/958;G01N21/88
代理公司: 芜湖安汇知识产权代理有限公司 34107 代理人: 朱圣荣
地址: 江北产业集中*** 国省代码: 重庆;85
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摘要:
搜索关键词: 玻璃 表面 缺陷 检测 装置
【说明书】:

技术领域

发明涉及玻璃检测领域,尤其设玻璃表面缺陷检测装置。

背景技术

盖玻片(CoverGlass)作为一种特殊的玻璃,广泛应用在日常生活中的手机、iPad、手提电脑等电子产品中。每年,在盖玻片生产、加工、组装的产线上,盖玻片数量大,工艺质量要求高。因而其缺陷检测和质量判定成了一种必不可少的质量环节。目前的盖玻片检测装置,每一种光源或者照明角度对应着一个专门的镜头和几乎同时采图的图像传感器,这样的装置成本高、占用空间大、各镜头和相机之间的归一化的系统标定难度大而且繁琐。

发明内容

本发明所要解决的技术问题是实现一种结构精简、检测可靠的玻璃表面缺陷检测装置。

为了实现上述目的,本发明采用的技术方案为一种玻璃表面缺陷检测装置,被检测玻璃上方固定有图像采集机构,所述图像采集机构输出采集信号至PC,所述被检测玻璃上方固定有第一暗场光源、第二暗场光源和反射亮场光源,所述被检测玻璃下方固定有透射亮场光源,装置设有控制器并输出触发信号至图像采集机构,输出光源脉冲信号至第一暗场光源、第二暗场光源、反射亮场光源和透射亮场光源。

所述的PC输出调控信号至控制器。

所述图像采集机构为安装有镜头的线扫描相机。

一种玻璃表面缺陷检测装置的控制方法,第一暗场光源、第二暗场光源、反射亮场光源、透射亮场光源依此点亮额定时间,每个光源点亮时触发图像采集机构采集图像信息。

本发明的优点在于本发明把所用成像的镜头和相机个数降到最低,大幅度地降低了成本,同时也缩小了空间,由于成像是通过同一镜头和相机来完成的,各个通道的成像比例与畸变几乎是一致的,因此各个通道的图像的像素位置匹配变得直接明了。

附图说明

下面对本发明说明书中每幅附图表达的内容及图中的标记作简要说明:

图1为玻璃表面缺陷检测装置结构示意图;

图2为照明时序图;

上述图中的标记均为:1、控制器;2、PC;3、第一暗场光源;4、第二暗场光源;5、反射亮场光源;6、透射亮场光源;7、图像采集机构;8、被检测玻璃。

具体实施方式

盖玻片的缺陷种类繁多,本发明就是针对盖玻片检测而设计的光电系统,分别采用正光源、背光源,亮场、暗场,等多种角度和照明方式来获取盖玻片的多通道图像,然后由智能系统统计分析其表面的缺陷特征,已达到缺陷的有效检出和分类。

玻璃表面缺陷检测装置结构如图1所示,被检测玻璃8上方固定有图像采集机构7,图像采集机构7为安装有镜头的线扫描相机,图像采集机构7输出采集信号至PC2,被检测玻璃8上方固定有第一暗场光源3、第二暗场光源4和反射亮场光源5,被检测玻璃8下方固定有透射亮场光源6,PC2输出调控信号至控制器1,可以调节控制器1的调节时序,控制器1输出触发信号至图像采集机构7,用于触发图像采集机构7工作,采集图像信息,同时控制器1根据时序信息输出光源脉冲信号至第一暗场光源3、第二暗场光源4、反射亮场光源5和透射亮场光源6,控制各个光源逐一点亮/闪烁。

基于上述玻璃表面缺陷检测装置的控制方法如下:第一暗场光源3、第二暗场光源4、反射亮场光源5、透射亮场光源6依此点亮(闪烁)额定时间,每个光源点亮时触发图像采集机构7采集图像信息,时序控制如图1所示,第一暗场光源3、第二暗场光源4、反射亮场光源5、透射亮场光源6依此点亮后为一轮检测周期,本发明通过对各种照明的时序交替开关控制,用同一个镜头和图像传感器来实现多通道的图像采集,各种照明所对应的通道的信号以有序交叉的形式逐行进入线扫描传感器,然后进入电脑的内存。一个完整的通道信息将通过软件每隔n行读取获得。本发明把所用成像的镜头和相机个数降到最低,大幅度地降低了成本,同时也缩小了空间。另外一个好处是由于成像是通过同一镜头和相机来完成的,各个通道的成像比例与畸变几乎是一致的,因此各个通道的图像的像素位置匹配变得直接明了。

本发明不仅适用于盖板玻璃的检测,而且适用于大型建筑用玻璃,平板显示器(FPD)玻璃,各种镀膜玻璃的检测。

本发明的方法也适用于半导体晶圆的检测以及生物医疗样品(如病理切片和细胞涂片)的检测。

本发明虽然以线扫描相机的运用为主,其原理同样适用于面阵相机。

上面结合附图对本发明进行了示例性描述,显然本发明具体实现并不受上述方式的限制,只要采用了本发明的方法构思和技术方案进行的各种非实质性的改进,或未经改进将本发明的构思和技术方案直接应用于其它场合的,均在本发明的保护范围之内。

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