[发明专利]雕刻凹印用光变防伪油墨的制备及其生产方法

权利要求书

1.雕刻凹印用光变防伪油墨，其特征在于，包括如下重量百分比的组分：

所述干燥剂为有机锰盐，有机锆盐、非钴类铁-卤素氮杂双环类大环铁络合物、锰- 卤素氮杂双环类大环锰络合物及其组合物。

2.根据权利要求1所述的雕刻凹印用光变防伪油墨，其特征在于，包括如下重量百 分比的组分：

各个组分的百分比之和为100％。

3.根据权利要求1或2所述的雕刻凹印用光变防伪油墨，其特征在于，所述的光变 防伪颜料选自绿变蓝、金变绿、红变绿、红变金、红变绿、黄变绿、蓝变红、紫变红、 金变绿、绿变紫或美高锐颜料。

4.根据权利要求1或2所述的雕刻凹印用光变防伪油墨，其特征在于，所述连结料 包括醇酸树脂、植物油改性酚醛树脂连结料、聚酰胺树脂、不饱和聚酯或环氧树脂中的 一种及以上。

5.根据权利要求4所述的雕刻凹印用光变防伪油墨，其特征在于，所述醇酸树脂包 括间苯醇酸树脂、邻苯醇酸树脂、植物油改性醇酸树脂、苯乙烯改性醇酸树脂、有机硅 改性醇酸树脂、聚氨酯改性醇酸树脂中的一种及以上。

6.根据权利要求4所述的雕刻凹印用光变防伪油墨，其特征在于，所述植物油改性 的酚醛树脂连结料包含纯酚醛树脂、松香或其衍生物改性酚醛树脂、桐油改性酚醛树脂 或C6-C20具有共轭双键的脂肪族族化合物改性酚醛树脂中的一种及以上。

7.根据权利要求4所述的雕刻凹印用光变防伪油墨，其特征在于，所述聚酰胺树脂 包含5320醇溶型聚酰胺树脂、P-4512醇溶型聚酰胺树脂、P-1155醇溶型聚酰胺树脂、 P-1074苯溶型聚酰胺树脂中的一种及以上。

8.根据权利要求4所述的雕刻凹印用光变防伪油墨，其特征在于，所述不饱和聚 酯包含环氧丙烯酸酯、丙烯酸改性聚酯树脂、多元醇丙烯酸酯、植物油酸改性不饱和聚 酯树脂一种及以上。

9.根据权利要求4所述的雕刻凹印用光变防伪油墨，其特征在于，所述环氧树脂 包含E-51、E-35、E-20、E-03等平均分子量在3000以下的环氧树脂产品中的一种及以 上。

10.根据权利要求1或2所述的雕刻凹印用光变防伪油墨，其特征在于，所述助剂 包含表面活性剂，蜡和二氧化硅。

11.根据权利要求10所述的雕刻凹印用光变防伪油墨，其特征在于，所述表面活性 剂包含如脂肪醇聚氧乙烯醚硫酸钠、仲烷基磺酸钠、十二烷基苯磺酸氨、APG1214、 APG0810、APG0814、AEC-9Na、十二烷基丙基磷酸脂甜菜碱、月桂酰胺丙基羟磺甜菜 碱、椰油酰胺丙基羟磺甜菜碱、咪唑啉、椰油酰胺丙基羟磺甜菜碱、十二烷基苯磺酸钠；

所述蜡包含巴西棕榈蜡、蒙旦蜡、氢化蓖麻仁油酸蜡、石蜡、氧化聚乙烯蜡、聚乙 烯蜡、氟化聚乙烯蜡或聚四氟乙烯蜡；

所述二氧化硅包含TS530、R930、M-5、A300、HS-5、A200、L-90或TS720。

所述溶剂为SE-3酯类溶剂、醚类溶剂或C10-C18矿物油类溶剂中的一种或几种混 合物。

12.根据权利要求1～8任一项所述的雕刻凹印用光变防伪油墨的制备方法，其特征 在于，包括如下步骤：

除光变颜料、干燥剂和溶剂外的材料，先进行轧制或珠磨，使细度达到16微米以 下，然后加入光变颜料，搅拌，使细度达到16微米以下，加入溶剂，获得产品，粘度 为3-15Pa.s/40℃。