[发明专利]一种超低温低变形抛釉砖坯体及其制备方法有效
| 申请号： | 201610073126.0 | 申请日： | 2016-02-02 |
| 公开（公告）号： | CN105753448B | 公开（公告）日： | 2018-08-21 |
| 发明（设计）人： | 董伟霞;包启富;周健儿;刘昆 | 申请（专利权）人： | 景德镇陶瓷大学 |
| 主分类号： | C04B33/13 | 分类号： | C04B33/13 |
| 代理公司： | 广州广信知识产权代理有限公司 44261 | 代理人： | 李玉峰 |
| 地址： | 333001 江西省景*** | 国省代码： | 江西;36 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 一种 超低温 变形 砖坯 及其 制备 方法 | ||
1.一种超低温低变形抛釉砖坯体，其特征在于：由基料和添加剂组成；所述基料的组成为金桥石粉25～35wt％、宜春砂10～25wt％、天湖砂10～25wt％、万载钠砂3～8wt％、金溪钠砂3～5wt％、锂瓷石5～10wt％、黑滑石2～5wt％、星子钠砂0～5wt％、废瓷粉0～5wt％、广东黑泥5～8wt％、重庆高铝土5～8wt％、吉安白泥3～6wt％、乐平膨润土3～8wt％、抚州白泥2～5wt％；所述添加剂为固含量为40％的有机硅纳米液，其用量为基料的1～3wt％；所述抛釉砖坯体其变形度＜0.5％、吸水率＜0.08％、反变＜0.2mm，抗折强度达到48.46～62.18MPa。
2.根据权利要求1所述的超低温低变形抛釉砖坯体，其特征在于：所述坯体的坯式为：
式中，R2O为Na2O+K2O+Li2O，RO为CaO+MgO，R2O3为Al2O3+Fe2O3，RO2为SiO2。
3.权利要求1或2所述超低温低变形抛釉砖坯体的制备方法，其特征在于包括以下步骤：
(1)将所述基料加入球磨机内进行混合球磨后，在放浆池中加入所述添加剂搅拌均匀而得到混合物料；
(2)所述混合物料依次进行过筛、干燥、造粒、压制成型而得到砖坯；
(3)所述砖坯在1140～1180℃温度下烧成，制得抛釉砖坯体产品。
4.根据权利要求3所述的超低温低变形抛釉砖坯体的制备方法，其特征在于：所述步骤(3)烧制过程中保温时间为10～15min，烧成总用时为55～65min。
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