[发明专利]高比功率GaAs多结柔性薄膜太阳电池及其制备方法有效
申请号: | 201610062060.5 | 申请日: | 2016-01-29 |
公开(公告)号: | CN105552140B | 公开(公告)日: | 2017-07-14 |
发明(设计)人: | 吴洪清;米万里;曹来志;张永;张双翔;徐培强;李俊承;韩效亚 | 申请(专利权)人: | 扬州乾照光电有限公司 |
主分类号: | H01L31/0216 | 分类号: | H01L31/0216;H01L31/0224;H01L31/0687;H01L31/0693;H01L31/18;H01L21/683 |
代理公司: | 扬州市锦江专利事务所32106 | 代理人: | 江平 |
地址: | 225009 *** | 国省代码: | 江苏;32 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 功率 gaas 柔性 薄膜 太阳电池 及其 制备 方法 | ||
技术领域
本发明涉及砷化镓多结柔性太阳电池生产技术领域。
背景技术
我国的太阳电池发展迅速,其中GaAs太阳电池为航天事业承担着重要角色。目前GaAs多结太阳电池主要有以Ge和GaAs为衬底正装多结太阳电池,以及倒置结构的多结太阳电池,其中倒置多结太阳电池因为各结电池带隙较好的匹配全光谱,有助于太阳光吸收,使得其光电转换效率始终远远领先于其它太阳电池,备受人们的青睐。倒装太阳电池虽然转换效率较高,但因键合在Si片上,电池片的重量也不轻,导致重量比功率并不理想;加之使用衬底是刚性材料,应用范围局限于平整的基板。对于太阳电池空间来说,其中一种重要指标就是重量比功率,所以具有较高质量比功率的柔性太阳电池成为当前研究的一大热点。
如图1所示,现有的太阳电池生产步骤如下:
1、外延生长:
采用MOCVD设备在GaAs衬底上依次生长N型GaAs的缓冲层、GaInP腐蚀截止层、N型GaAs接触层、GaInP顶电池、第一隧穿结、GaAs中电池、第二隧穿结、InGaAs底电池和P型InGaAs接触层完成外延片24的生长。
2、衬底转移:
在电池外延片24的底电池背部和导电类型为P型的转移Si衬底22正面,分别通过电子束依次蒸镀Ti、Pt和Au层,再将蒸镀完电池外延片24与转移Si衬底22通过金属键合层23进行金属键合。
3、衬底剥离:
采用氨水、双氧水腐蚀液去除金属键合后的电池外延结构上的GaAs衬底。
4、电极制作:
采用负性光刻胶工艺光刻电极栅线图形,用电子束和热阻真空蒸镀的方式,在顶电池欧姆接触层上制备金属电极,并通过有机剥离将完成上电极26制作;在转移Si衬底22背面蒸镀制备下电极21。
5、减反射膜:
将完成选择性腐蚀的电池片,采用电子束蒸镀的方法蒸镀TiO2/Al203双层减反射膜25。
6、退火、划片、端面处理完成倒装太阳电池芯片制作。
这种GaInP/GaAs/InGaAs倒装三结太阳电池目前效率最高的效率在32%左右,在光谱AM 0下,标准光强为136.7mw/cm2,输出功率约为43.74 mw/cm2率;以面积12cm2的倒装三结电池芯片为例,电池质量2.25g,质量比功率1945w/kg,已接近理论值,离3000w/kg空间需求还有一定距离。
若能将衬底去除或者采用较轻衬底替代,结果可想而知,重量将大幅降低,相应空间飞行器的发射和运载成本将会得到很好的改善。
发明内容
针对现有技术的不足,本发明目的是提出一种能减轻电池体重量、具有柔韧弯曲,从而提高重量比功率和扩大应用范围的GaAs多结柔性薄膜太阳电池。
本发明包括下电极,在下电极一侧设置电池外延层,在电池外延层上设置上电极和减反射膜;所述电池外延层包括N型GaAs接触层、GaInP顶电池、第一隧穿结、GaAs中电池、第二隧穿结、InGaAs底电池和P型InGaAs接触层。
本发明产品仅上、下电极,加外延层和减反射膜,并无衬底支撑,具有较高的重量比功率和超薄性的特点,产品厚度仅约10~15μm上,且输出功率互不影响、独立工作。另外,具有弯曲的特性,可大大增加太阳电池的应用范围。
进一步地,本发明在上电极和减反射膜上设置临时保护层,在临时保护层上设置临时柔性载体。
临时保护层的作用在于保护电池正面,避免因临时载体粘附的胶层残留在电池表面,影响柔性电池的表观和电学特性。在临时柔性载体只起到托运的作用,以确保在搬运过程中对产品的保护。使用时仅需通过简单的操作即可去除临时保护层和临时柔性载体。
为了便于粘合和分离,同时,不影响产品的柔性和硬度,所述临时柔性载体为UV膜、热剥离膜、PET衬底、PI柔性衬底或PEN衬底中的任意一种。
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