[发明专利]位置测量设备

权利要求书

1.一种位置测量设备，具有

至少一个第一码尺(1)和至少一个第二码尺(2，2.1)，其彼此相接用于放大测量区域，并且具有

具有用于发出光束的光源(41)的探测设备(4)，其中所述第一码尺(1)具有带第一周期性的标志(10)的反射的相栅，其将击中的光束以在给定的衍射级次中的第一衍射效率衍射，其特征在于，

所述第二码尺(2，2.1)具有带第二周期性的标志(20，20.1)的反射的相栅，所述第二周期性的标志的外形与第一周期性的标志(10)不同，并且所述第二码尺(2，2.1)的相栅的反射率相对于所述第一码尺(1)的相栅如此减少，使得其将击中的光束以在给定的衍射级次中的第一衍射效率衍射。

2.如权利要求1所述的位置测量设备，其中所述第二码尺(2，2.1)的相栅的反射率相对于所述第一码尺(1)的相栅减少5%到20%。

3.如权利要求1所述的位置测量设备，其中所述第一码尺(1)的相栅和第二码尺(2，2.1)的相栅分别设计成抑制第零衍射级次。

4.如权利要求1所述的位置测量设备，其中所述给定的衍射级次是第一衍射级次。

5.如权利要求1-4之一所述的位置测量设备，其中第一码尺(1)和第二码尺(2，2.1)分别具有层堆，所述层堆由透明的间隔层(11，21，21.1)和在间隔层(11，21，21.1)的两侧布置的两个反射器(12，13，22，23，22.1，23.1)组成，其中第一码尺(1)的面对探测设备(4)的反射器(12)形成第一周期性的标志(10)并且第二码尺(2，2.1)的面对探测设备(4)的反射器(22，22.1)形成第二周期性的标志(20，20.1)。

6.如权利要求5所述的位置测量设备，其中所述透明的间隔层(11，21，21.1)由绝缘的材料组成。

7.如权利要求5所述的位置测量设备，其中所述第二码尺的相栅的反射率相对于所述第一码尺的相栅的反射率减少，其方式为第二码尺的间隔层下的反射器的反射率比第一码尺的间隔层下的反射器反射率更小。

8.如权利要求5所述的位置测量设备，其中所述第二码尺(2，2.1)的相栅的反射率相对于第一码尺(1)的相栅的反射率减少，其方式为在间隔层(21，21.1)和布置在间隔层(21，21.1)下的反射器(23，23.1)之间布置衰减层(24，24.1)。

9.如权利要求8所述的位置测量设备，其中所述衰减层(24，24.1)具有3nm到15nm的厚度。

10.如权利要求1-4之一所述的位置测量设备，其中所述第一码尺(1)和所述第二码尺(2，2.1)分别构造成在两个彼此垂直布置的方向(X，Y)上进行位置测量，其方式为第一标志(10)和第二标志(20，20.1)在彼此垂直布置的方向上周期性布置。

11.如权利要求1-4之一所述的位置测量设备，其中所述第一周期性的标志(10)具有外轮廓，所述外轮廓与第二周期性的标志(20，20.1)的外轮廓不同。

12.如权利要求11所述的位置测量设备，其中所述第一周期性的标志(10)具有矩形外轮廓。

13.如权利要求11所述的位置测量设备，其中所述第二周期性的标志(20，20.1)分别具有八角形的外轮廓，或

圆形外轮廓，或

由弧形构成的外轮廓，或

由弧形和由直线构成的外轮廓，

或

具有由多线条形成的外轮廓，其包括两个彼此位置相对的第一直线边缘(K1)和两个垂直于其延伸的彼此位置相对的第二直线边缘(K2)以及分别包括钝的角度(a)的在各第一边缘(K1)和第二边缘(K2)之间的连接线(K3)。