[发明专利]一种超细多孔硅酸钙陶瓷膜的制备方法有效

专利信息
申请号: 201610014543.8 申请日: 2016-01-11
公开(公告)号: CN105645941B 公开(公告)日: 2018-04-20
发明(设计)人: 李明辉;陈航宇;张宁月;王焕平;徐时清;雷若姗;李银艳 申请(专利权)人: 中国计量学院
主分类号: B01D71/02 分类号: B01D71/02;C04B35/22;C04B35/622;C04B38/06
代理公司: 杭州求是专利事务所有限公司33200 代理人: 韩介梅
地址: 310018 浙江省*** 国省代码: 浙江;33
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摘要:
搜索关键词: 一种 多孔 硅酸 陶瓷膜 制备 方法
【说明书】:

技术领域

发明涉及一种多孔陶瓷膜的制备方法,具体涉及一种超细多孔硅酸钙陶瓷膜的制备方法,属于材料科学技术领域。

背景技术

多孔陶瓷又称为气孔功能陶瓷,是指具有一定尺寸和数量孔隙结构的新型陶瓷材料。由于多孔陶瓷具有均匀分布的微孔或孔洞,孔隙率较高、体积密度小、比表面较大和独特的物理表面特性,对液体和气体介质有选择的透过性、能量吸收或阻尼特性,而且作为陶瓷材料还具有耐高温、耐腐蚀、高的化学稳定性和尺寸稳定性;因此,多孔陶瓷这一绿色材料可以在气体液体过滤、净化分离、化工催化载体、吸声减震、高级保温材料、生物植入材料、特种墙体材料和传感器材料等多方面得到广泛应用。高孔隙率的多孔陶瓷已经用于废水、废气的处理,其优点是能够保证更好和更可靠的水质,不用化学物质,特别适合于高附加值产品。无机陶瓷膜在废水处理中的应用主要包括处理含油废水、纺织废水、化工废水、放射性废水、含重金属废水、城市生活污水和造纸废水等。

目前,多孔陶瓷的最小孔径一般在3~5 μm左右,很难再做得更细小。然而,如果要保证更优秀的过滤性能,其孔径尺寸应该更小或达到纳米级。硅酸钙是一种潜在的、具有广阔应用前景的生物活性材料,其可以被制备成多孔陶瓷并用于骨骼替代等,如林开利等(无机材料学报, 2005, 20: 962)采用聚乙二醇为造孔剂,制备出了大孔径200~500 μm的多孔硅酸钙陶瓷,并对其体外活性及降解性展开了研究。但所见报道的多孔硅酸钙陶瓷的孔径一般在几百微米左右,很难做到纳米级。

发明内容

本发明的目的是提供一种能制备出孔径细小、并可以达到纳米级的多孔硅酸钙陶瓷膜的制备方法。

本发明提出的超细多孔硅酸钙陶瓷膜的制备方法,包括以下步骤:

(1)称取相同摩尔数的CaCO3与SiO2放入球磨机中,以氧化锆球为磨介,球磨混合6~24小时,然后将混合物烘干并在1270~1290℃煅烧1~5小时;

(2)将上述经过煅烧的产物进行对辊粉碎,对辊机中两辊筒的间距控制在40~50 μm,然后过325目的筛子,获得粒度小于325目的硅酸钙粉体;

(3)按上述硅酸钙粉体质量的0~10%称取葡萄糖,溶解于去离子水中,然后加入上述硅酸钙粉体,在搅拌机中搅拌混合0.5~2小时;

(4)将上述搅拌混合后的物质进行喷雾干燥,除掉去离子水,获得粉体;

(5)将喷雾干燥后获得的粉体放入模具中,在30~40 MPa的压力下成型,然后升温到380~420℃保温1~3小时,冷却后再放入等静压机中,在100~200 MPa下进行等静压;

(6)将等静压后的产物放在高温炉中,在850~950℃保温2~6小时,接着继续升温到1290~1320℃保温2~4小时,然后随炉冷却至室温。

本发明制备过程中,步骤(1)的煅烧温度一定要进行严格控制,如果低于1270℃,所合成的硅酸钙粉体颗粒偏小,不利于后继孔隙的形成;但如果煅烧温度超过1290℃,可能会造成硅酸钙趋于陶瓷化,产物变得坚硬不易粉碎,而且粉体颗粒尺寸过大,后继的孔隙率会下降。所以,本发明将煅烧温度控制在1270~1290℃之间,一方面使硅酸钙粉体颗粒有所增大并发生相互粘连,另一方面不会出现烧成结块的现象。

步骤(2)的对辊机中两辊筒的间距应控制在40~50 μm。上述经过1270~1290℃煅烧获得的硅酸钙粉体,其一次粒径大小一般在2~10 μm左右,相邻的颗粒间会同时出现粘连现象;对辊机中两辊筒的间距决定了最后粉体的粒径大小,若辊筒的间距过小,将导致硅酸钙粉体的粒径太小,不利于后继孔隙的形成;但若辊筒的间距过大,相互粘连的硅酸钙粉体颗粒难以分开,导致硅酸钙粉体的粒径过大,后继的孔隙率会下降、且孔径会大幅度增大。

通过步骤(3)和步骤(4),实现了葡萄糖以分子级水平在硅酸钙粉体表面的包覆,这为后继制备出超细的孔径奠定了基础。

步骤(5)先使表面包覆葡萄糖的硅酸钙粉体在较低压力下成型,再在380~420℃使葡萄糖(C6H12O6)发生分解、挥发出水分;这样低的成型压力(30~40 MPa)有利于水分的挥发并有效防止素坯发生开裂。葡萄糖分解后将残留碳,这样在硅酸钙粉体颗粒间隙出现细小的碳颗粒;再在100~200 MPa下进行等静压,即可使硅酸钙坯体较为致密。

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