[发明专利]一种邦定失效分析方法有效
申请号: | 201610008578.0 | 申请日: | 2016-01-01 |
公开(公告)号: | CN105651790B | 公开(公告)日: | 2019-08-20 |
发明(设计)人: | 况东来;周波;胡梦海 | 申请(专利权)人: | 广州兴森快捷电路科技有限公司;深圳市兴森快捷电路科技股份有限公司;广州市兴森电子有限公司 |
主分类号: | G01N23/00 | 分类号: | G01N23/00;G01B15/04 |
代理公司: | 广州市越秀区哲力专利商标事务所(普通合伙) 44288 | 代理人: | 汤喜友 |
地址: | 510663 广东省广州市广*** | 国省代码: | 广东;44 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 失效 分析 方法 | ||
1.一种邦定失效分析方法,其特征在于,包括如下步骤,依次为:
S1:使用X-ray测厚仪测量镀层厚度;
S2:用扫描电镜观察表面形貌是否存在异常;
S3:若表面形貌异常,则用线扫分析表面是否存在局部无金,若是则判定为表面形貌异常是导致邦定不良的因素之一。
2.如权利要求1所述的邦定失效分析方法,其特征在于,所述步骤S2还包括用扫描电镜观察表面是否存在异常元素污染;
若是,则进行EDS分析异常元素种类:若异常元素为无机类,则用硫酸进行清洗表面;若异常元素为有机类,则用等离子清洗表面;
清洗完毕后验证邦定性能,若邦定性能恢复则判定为异常元素污染是导致邦定不良的因素之一。
3.如权利要求1或2所述的邦定失效分析方法,其特征在于:所述镀层为镍钯金镀层或者软金镀层,其中镍钯金镀层要求金厚>0.05μm、钯厚≥0.05μm;软金镀层要求金厚>0.25μm。
4.如权利要求1所述的邦定失效分析方法,其特征在于:所述表面形貌异常包括喷砂或划痕。
5.如权利要求2所述的邦定失效分析方法,其特征在于:所述有机类异常元素包括C、S、O、N。
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