[发明专利]吸嘴清洗装置有效
申请号: | 201610007129.4 | 申请日: | 2016-01-06 |
公开(公告)号: | CN105750252B | 公开(公告)日: | 2019-07-23 |
发明(设计)人: | 大月孝浩;下坂贤司 | 申请(专利权)人: | 株式会社富士 |
主分类号: | B08B3/02 | 分类号: | B08B3/02;B08B3/08;B08B3/12;B08B5/02 |
代理公司: | 中原信达知识产权代理有限责任公司 11219 | 代理人: | 穆德骏;谢丽娜 |
地址: | 日本爱知*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 清洗 装置 | ||
本发明提供一种吸嘴清洗装置,能够有效地使具有滑动部位的吸嘴的污垢等脱落。作业者将吸嘴清洗装置(10)放入装有清洗液的超声波清洗槽(70),将超声波清洗槽(70)的开关接通而向清洗液施加超声波振动,并将吸嘴清洗装置(10)的驱动马达(52)的开关接通而使按压构件(60)上下移动。当按压构件(60)向下方移动时,夹持着吸嘴支承体(86)的盒(30)及上盖(40)克服弹簧(24)的弹力而相对于吸嘴主体(82)向下方移动。而且,当按压构件(60)向上方移动时,夹持着吸嘴支承体(86)的盒(30)及上盖(40)被弹簧(24)的弹力向上施力,因此相对于吸嘴主体(82)向上方移动。
技术领域
本发明涉及吸嘴清洗装置。
背景技术
元件安装机在吸嘴的前端吸附从元件供给装置供给的电子元件,在此状态下使吸嘴向安装基板上移动,在安装基板的规定位置解除吸附而从吸嘴的前端放开元件。当这样的吸嘴存在污垢或堵塞物时,成为发生元件的吸附不良的原因。因此,优选随时或定期地对吸嘴进行清洗。例如,在专利文献1中公开了一种将从元件安装机拆下的多个吸嘴收纳于吸嘴座并通过超声波清洗等对该吸嘴座进行清洁的装置。
在先技术文献
专利文献
专利文献1:日本特开2012-5948号公报
发明内容
发明要解决的课题
然而,在上述的装置中,在将收纳有多个吸嘴的吸嘴座浸渍于清洁液的状态下对吸嘴进行超声波清洗,但是关于具有滑动部位的吸嘴,有时无法充分清洗污垢或堵塞物。具有滑动部位的吸嘴通常具备:吸嘴主体,具有对元件进行吸附的前端部;吸嘴支承体,其对该吸嘴主体以能够沿着规定方向滑动的方式进行支承。在这样的吸嘴中,在吸嘴主体与吸嘴支承体的滑动部位容易积存污垢或堵塞物,但是滑动部位的污垢或堵塞物如果仅通过在吸嘴浸渍于清洁液的状态下进行超声波清洗则不容易脱落。
本发明为了解决这样的课题而作出,其主要目的在于有效地使具有滑动部位的吸嘴的污垢等脱落。
用于解决课题的方案
本发明的吸嘴清洗装置具备:
吸嘴保持单元,对吸嘴进行保持,所述吸嘴的具有对元件进行吸附的前端部的吸嘴主体以能够沿规定方向滑动的方式支承于吸嘴支承体;以及
吸嘴滑动单元,在所述吸嘴保持单元所保持的所述吸嘴的所述吸嘴主体与所述吸嘴支承体之间存在清洗用流体的状态下,使所述吸嘴主体与所述吸嘴支承体沿所述规定方向相对滑动。
在该吸嘴清洗装置中,在吸嘴主体与吸嘴支承体之间存在清洗用流体的状态下,使吸嘴主体与吸嘴支承体相对滑动。因此,与在不使吸嘴主体与吸嘴支承体滑动的情况下利用清洗用流体进行清洗的情况相比,能够有效地使滑动部位的污垢或堵塞物脱落。
在本发明的吸嘴清洗装置中,所述清洗用流体可以是从由有机系清洗用液体、水系清洗用液体、清洗用加压气体及清洗用雾构成的组中选择的一种以上。若使用有机系清洗用液体,则能够有效地清洗积存于吸嘴的滑动部位的脂溶性的污垢或堵塞物。若使用水系清洗用液体,则能够有效地清洗积存于吸嘴的滑动部位的水溶性的污垢或堵塞物。若使用清洗用加压气体,则能够将积存于吸嘴的滑动部位的污垢或堵塞物吹跑。若使用清洗用雾,则能够以少量的液量将积存于吸嘴的滑动部位的污垢或堵塞物除去。特别地,清洗用流体优选被施加超声波振动的有机系清洗用液体或水系清洗用液体。这样的话,能够更有效地清洗吸嘴的滑动部位的污垢等。
在此,作为有机系清洗用液体,可列举例如乙醇、异丙醇、丙酮等。作为水系清洗用液体,例如除了水本身之外,还可列举将洗涤剂溶解于水中的溶液等。作为清洗用加压气体,例如除了加压空气之外,还可列举加压的氮等惰性气体等。作为清洗用雾,可列举例如有机系清洗用液体的雾、水系清洗用液体的雾等。
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