[发明专利]吸嘴清洗装置有效
申请号: | 201610007129.4 | 申请日: | 2016-01-06 |
公开(公告)号: | CN105750252B | 公开(公告)日: | 2019-07-23 |
发明(设计)人: | 大月孝浩;下坂贤司 | 申请(专利权)人: | 株式会社富士 |
主分类号: | B08B3/02 | 分类号: | B08B3/02;B08B3/08;B08B3/12;B08B5/02 |
代理公司: | 中原信达知识产权代理有限责任公司 11219 | 代理人: | 穆德骏;谢丽娜 |
地址: | 日本爱知*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 清洗 装置 | ||
1.一种吸嘴清洗装置,具备:
吸嘴保持单元,对吸嘴进行保持,所述吸嘴的具有对元件进行吸附的前端部的吸嘴主体以能够沿规定方向滑动的方式支承于吸嘴支承体;以及
吸嘴滑动单元,在所述吸嘴保持单元所保持的所述吸嘴的所述吸嘴主体与所述吸嘴支承体之间存在清洗用流体的状态下,使所述吸嘴主体与所述吸嘴支承体沿所述规定方向相对滑动,
所述吸嘴保持单元具备对所述吸嘴主体进行保持的吸嘴主体保持用具和对所述吸嘴支承体进行保持的吸嘴支承体保持用具,
所述吸嘴滑动单元在所述吸嘴主体保持用具的位置被进行固定的状态下使所述吸嘴支承体保持用具沿所述规定方向往复移动。
2.根据权利要求1所述的吸嘴清洗装置,其中,
所述清洗用流体是从由有机系清洗用液体、水系清洗用液体、清洗用加压气体及清洗用雾构成的组中选择的一种以上。
3.根据权利要求1所述的吸嘴清洗装置,其中,
所述清洗用流体是被施加超声波振动的有机系清洗用液体或水系清洗用液体。
4.根据权利要求2所述的吸嘴清洗装置,其中,
所述清洗用流体是被施加超声波振动的有机系清洗用液体或水系清洗用液体。
5.根据权利要求1至4中任一项所述的吸嘴清洗装置,其中,
所述吸嘴支承体保持用具由弹性体支承,
所述吸嘴滑动单元在所述吸嘴主体保持用具的位置被进行固定的状态下向所述吸嘴支承体保持用具施加克服了所述弹性体的弹力的外力,而使所述吸嘴支承体保持用具沿着所述规定方向的去程路移动,在所述外力解除之后,通过所述弹性体的弹力使所述吸嘴支承体保持用具沿着所述规定方向的回程路移动。
6.一种吸嘴清洗装置,具备:
吸嘴保持单元,对吸嘴进行保持,所述吸嘴的具有对元件进行吸附的前端部的吸嘴主体以能够沿规定方向滑动的方式支承于吸嘴支承体;以及
吸嘴滑动单元,在所述吸嘴保持单元所保持的所述吸嘴的所述吸嘴主体与所述吸嘴支承体之间存在清洗用流体的状态下,使所述吸嘴主体与所述吸嘴支承体沿所述规定方向相对滑动,
所述吸嘴保持单元具备对所述吸嘴主体进行保持的吸嘴主体保持用具和对所述吸嘴支承体进行保持的吸嘴支承体保持用具,
所述吸嘴滑动单元在所述吸嘴支承体保持用具的位置被进行固定的状态下使所述吸嘴主体保持用具沿所述规定方向往复移动。
7.根据权利要求6所述的吸嘴清洗装置,其中,
所述清洗用流体是从由有机系清洗用液体、水系清洗用液体、清洗用加压气体及清洗用雾构成的组中选择的一种以上。
8.根据权利要求6所述的吸嘴清洗装置,其中,
所述清洗用流体是被施加超声波振动的有机系清洗用液体或水系清洗用液体。
9.根据权利要求7所述的吸嘴清洗装置,其中,
所述清洗用流体是被施加超声波振动的有机系清洗用液体或水系清洗用液体。
10.根据权利要求6至9中任一项所述的吸嘴清洗装置,其中,
所述吸嘴主体保持用具由弹性体支承,
所述吸嘴滑动单元在所述吸嘴支承体保持用具的位置被进行固定的状态下向所述吸嘴主体保持用具施加克服了所述弹性体的弹力的外力,而使所述吸嘴主体保持用具沿着所述规定方向的去程路移动,在所述外力解除之后,通过所述弹性体的弹力使所述吸嘴主体保持用具沿着所述规定方向的回程路移动。
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