[发明专利]荧光X射线分析装置及其中使用的光谱显示方法有效
申请号: | 201580082847.1 | 申请日: | 2015-07-03 |
公开(公告)号: | CN108027331B | 公开(公告)日: | 2023-09-15 |
发明(设计)人: | 古川博朗 | 申请(专利权)人: | 株式会社岛津制作所 |
主分类号: | G01N23/223 | 分类号: | G01N23/223 |
代理公司: | 上海华诚知识产权代理有限公司 31300 | 代理人: | 肖华 |
地址: | 日本国京都府京*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 荧光 射线 分析 装置 其中 使用 光谱 显示 方法 | ||
为了不变更装置结构而以软件方式识别荧光X射线与衍射X射线、并在光谱中的波峰处显示荧光X射线信息与衍射X射线信息,本发明的荧光X射线分析装置具备将X射线射出到试样的X射线管(10)以及检测来自试样的X射线的检测器(30),该荧光X射线分析装置根据由检测器(30)检测到的X射线,制作并显示表示X射线能量与元素的含量的关系的光谱,其中,荧光X射线分析装置具备:识别信息制作部(61c),其制作对基于衍射X射线的波峰位置进行确定的识别信息,该衍射X射线根据试样的晶体结构而产生;以及显示控制部(61d),其根据识别信息,在光谱中的波峰处显示衍射X射线信息。
技术领域
本发明涉及一种取得试样中包含的元素的信息的荧光X射线分析装置及在该荧光X射线分析装置中使用的光谱显示方法。
背景技术
荧光X射线分析装置将初级X射线照射到固体试样、粉状试样、液体试样,检测通过初级X射线激励而放出的荧光X射线的强度,从而进行该试样中包含的元素的定性、定量分析。
图4是示出以往的一般的能量分散型荧光X射线分析装置的结构的概略结构图。能量分散型荧光X射线分析装置101具备在内部配置有试样S的分析腔室20、在内部配置有X射线管10和检测器30的装置框体50、脉冲处理器41、数据存储器42以及控制X射线管10和检测器30的计算机160。
分析腔室20具有四边形板状的试样底座21以及具有四边形板状的上表面的四方管形状的上部腔室22。在试样底座21的中央部,形成有圆形形状的开口21a。以使上部腔室22的一个侧壁的下表面与试样底座21的上表面侧的一边成为轴的方式,相对于试样底座21可旋转地安装上部腔室22。并且,上部腔室22的内部与真空泵(未图示)连接,通过真空泵排气成真空。根据这样的分析腔室20,通过打开上部腔室22,能够以试样S的分析面堵塞开口21a的方式配置试样S,在配置试样S之后,关闭上部腔室22,能够将上部腔室21的内部排气成真空。
装置框体50是具有四边形板状的下表面的四方管形状,将试样底座21的下表面侧的边缘部安装于四方管形状的侧壁的上表面。然后,将X射线管10和检测器30配置于装置框体50的内部。
X射线管10例如是点聚焦的X射线球管,具有框体,将作为阳极的靶材(未图示)和作为阴极的灯丝(未图示)配置于框体的内部。由此,通过对靶材施加高电压,并且对灯丝施加低电压,从而使从灯丝放射的热电子碰撞到靶材的端面,从而使在靶材的端面产生的初级X射线射出。图5是示出这样得到的初级X射线的能量分布的图。能量分布是与靶材的材质相应的特征X射线重叠于连续X射线而得到的分布。
并且,X射线管10固定地安装于试样底座21的开口21a的左下方,构成为使从X射线管10射出的初级X射线以入射角θ入射到开口21a中。因此,通过使试样S的分析面以堵塞开口21a的方式抵接,从而由初级X射线以入射角θ照射试样S的分析面。
检测器30例如具有形成有导入窗的框体,在框体的内部配置有检测荧光X射线的检测元件(半导体元件)。并且,检测器30固定地安装于试样底座21的开口21a的右下方,构成为使得在试样S的分析面产生的荧光X射线入射到导入窗。因此,当初级X射线照射到试样S的分析面时,检测器30就对在试样S的分析面产生的荧光X射线进行检测。此时,来自检测器30的输出信号变成阶梯波状,阶梯波状的各1级分别表示对荧光X射线进行检测,另外,各级的高度表示波长λ、即X射线能量E。收到这样的输出信号的脉冲处理器41将其转换成与各级的高度(X射线能量E)成比例的高度的脉冲。然后,当1个脉冲被转换时,数据存储器42就对与脉冲的高度相应的X射线能量位置E加上强度“1”,其结果,制作横轴为荧光X射线能量E、纵轴为元素的含量(强度)的光谱。图6是元素Sn的在测定试样S时制作的光谱的一个例子。
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