[发明专利]喷嘴和液体供应装置

说明书

本文描述的实施方式总体上涉及喷嘴和液体供应装置。实施方式要解决的问题是提供具有防止滴液的新颖结构的喷嘴和液体供应装置。根据实施方式，喷嘴包括本体。本体设置有：供应口，液体被供应至供应口；排出口，液体从排出口向下排出；以及流道，其在供应口与排出口之间延伸。流道包括存储部和排气部。存储部包括：第一部分，液体通过第一部分向下流到排出口；以及第二部分，其设置在第一部分的下游，液体通过第二部分向上流到排出口。排气部能够在液体没有从排出口排出而被存储在存储部中时将第二部分的上游的气体排出。存储部包括连接第一部分和第二部分的第三部分。排气部包括通向流道中的第三部分的上游侧的部分和下游侧的部分的旁路通道。

相关申请的交叉引用

本申请是2015年9月8日提交的、以引用的方式并入本文的国际申请No.PCT/JP2015/075511的国家阶段申请，并且该申请要求2015年3月18日提交的日本专利申请No.2015-054830的优选权的权益，该日本专利申请的全部内容以引用的方式并入本文。

技术领域

本文描述的实施方式总体上涉及喷嘴和液体供应装置。

背景技术

传统上，已知通过喷嘴将化学液体从上方排出到诸如晶片等工件上的液体供应装置。

专利文献1：日本未审查专利公开No.8-281184A

专利文献2：日本未审查专利公开No.2005-44836A

专利文献3：日本未审查专利公开No.10-119775A

上述液体供应装置可能在排出化学液体之后将化学液体从喷嘴滴到工件上，导致工件的质量劣化。因此，获得具有防止滴液的新颖结构的喷嘴是有用的。

发明内容

实施方式要解决的问题是提供具有防止滴液的新颖结构的喷嘴和液体供应装置。

根据实施方式，喷嘴包括本体。本体设置有：供应口，液体被供应至供应口；排出口，液体从排出口向下排出；以及流道，其在供应口与排出口之间延伸。流道包括存储部和排气部。存储部包括：第一部分，液体通过第一部分向下流到排出口；以及第二部分，其设置在第一部分的下游，液体通过第二部分向上流到排出口。排气部能够在液体没有从排出口排出而被存储在存储部中时将第二部分的上游的气体排出。存储部包括连接第一部分和第二部分的第三部分。排气部包括旁路通道，旁路通道通向流道中的第三部分的上游侧的部分和下游侧的部分。

附图说明

图1是根据第一实施方式的化学液体涂覆装置的示意图。

图2是根据第一实施方式的喷嘴的截面图。

图3是根据第一实施方式的管的一部分的截面图。

图4是根据第二实施方式的喷嘴的截面图。

图5是根据第二实施方式的喷嘴的截面图，此时液体存储在排气部中。

图6是根据第三实施方式的喷嘴的截面图。

图7是根据第三实施方式的喷嘴的截面图，此时液体存储在排气部中。

图8是根据第四实施方式的喷嘴的截面图。

图9是根据第五实施方式的喷嘴的截面图。

图10是沿线X-X截取的图9的截面图。

图11是根据第六实施方式的喷嘴的截面图。

图12是根据第七实施方式的喷嘴的截面图。

图13是根据第八实施方式的喷嘴的截面图。

图14是根据第九实施方式的喷嘴的截面图。