[发明专利]反射镜装置

权利要求书

1.一种反射镜装置(29)，包括

1.1.具有反射镜体(35)的至少一个反射镜(27)，所述反射镜体(35)具有

1.1.1.朝前的前侧，

1.1.2.后侧(21)，以及

1.1.3.至少一个侧表面(22)，以及

1.2.至少两个分开的导电屏蔽元件(25)，

1.2.1.能够通过至少两个供电线路(64)对所述至少两个分开的导电屏蔽元件(25)施加不同电压(U_r1，U_r2)；并且

1.2.2.所述至少两个分开的导电屏蔽元件(25)形成在与所述至少一个侧表面(22)和/或所述后侧(21)相邻的区域中产生电场的机构。

2.如权利要求1所述的反射镜装置(29)，其特征在于，所述导电屏蔽元件(25)中的至少一个布置在所述至少一个侧表面(22)的区域中和/或在所述反射镜(27)的所述后侧(21)上或后面的区域中。

3.如权利要求1或2所述的反射镜装置(29)，其特征在于电压源(63)，所述电压源(63)对所述导电屏蔽元件(25)中的至少一个施加-300V至300V范围内的电压。

4.如权利要求1或2所述的反射镜装置(29)，其特征在于控制装置(60)，所述控制装置(60)控制对所述导电屏蔽元件(25)中的至少一个所施加的电压。

5.如权利要求1或2所述的反射镜装置(29)，其特征在于，能够通过所述反射镜体(35)中的供电线路对所述导电屏蔽元件(25)施加电压(U_r1，U_r2)。

6.如权利要求1或2所述的反射镜装置(29)，其特征在于，至少两个导电屏蔽元件(25)布置在所述反射镜体(35)中的一个的不同侧表面(22)中或上。

7.如权利要求1或2所述的反射镜装置(29)，其特征在于，所述反射镜装置包括多个反射镜(27)。

8.如权利要求7所述的反射镜装置(29)，其特征在于，至少一个导电屏蔽元件(25)分别布置在两个相邻反射镜(27)之间的空隙后面的区域中。

9.如权利要求7所述的反射镜装置(29)，其特征在于，两个导电屏蔽元件(25)分别成对布置在相邻反射镜(27)的相对的侧表面(22)的区域中。

10.一种投射曝光设备(1)的照明光学单元(4)，包括至少一个如权利要求1至9中任一项中所述的反射镜装置(29)。

11.一种微光刻投射曝光设备(1)的照明系统(2)，包括

11.1.如权利要求10所述的照明光学单元(4)，以及

11.2.产生照明辐射(10)的辐射源(3)。

12.一种微光刻投射曝光设备(1)，包括

12.1.如权利要求10所述的照明光学单元(4)，以及

12.2.投射光学单元(7)，所述投射光学单元(7)将照明辐射(10)从物场(5)投射到像场(8)中。

13.一种制造微结构化或纳米结构化部件的方法，

13.1.提供掩模母版(30)，

13.2.提供晶片，所述晶片具有对照明辐射(10)敏感的涂层，

13.3.借助于如权利要求12所述的微光刻投射曝光设备(1)，将所述掩模母版(30)的至少一个区段投射到所述晶片上，

13.4.将所述晶片上已经由所述照明辐射(10)曝光的光敏层显影。