[发明专利]通过机器学习的特征搜索

权利要求书

1.一种用以改进光刻工艺的计算机实施方法，所述光刻工艺用于使用光刻投影设备将设计布局的一部分成像至衬底上，所述方法包括：

获得目标特征；

通过将扰动施用于所述目标特征来从所述目标特征产生经扰动的目标特征；

产生训练样本集合，所述训练样本包括所述经扰动的目标特征和关于是否将所述经扰动的目标特征视作与所述目标特征相同的指示；

利用所述训练样本集合来训练学习模型；

通过计算机将所述设计布局的所述部分中的特征分类成至少两个类别：视作与所述目标特征相同、和视作与所述目标特征不同。

2.根据权利要求1所述的方法，其中将所述特征分类是基于所述特征的第一像素化图像，所述第一像素化图像具有第一分辨率。

3.根据权利要求2所述的方法，还包括通过将低通滤波器施用于所述特征而产生所述第一像素化图像。

4.根据权利要求1所述的方法，其中所述扰动是重设大小、移位、移除所述目标特征的部分、添加一部分至所述目标特征，或它们的组合。

5.根据权利要求1所述的方法，其中所述学习模型是非概率的，或其中所述学习模型是支持向量机，或其中所述学习模型具有非线性核函数。

6.根据权利要求1所述的方法，其中受监督的学习模型具有高斯径向基核函数或直方图交叉核函数。

7.根据权利要求2所述的方法，其中将所述特征分类包括：将滑动窗中的所述第一像素化图像的一部分分类。

8.根据权利要求7所述的方法，还包括：使所述滑动窗移位。

9.根据权利要求8所述的方法，其中所述扰动是使所述目标特征移位，其中使所述滑动窗移位与所述扰动中的移位的量相比相等或更小的量。

10.根据权利要求2所述的方法，其中将所述特征分类还基于所述特征的第二像素化图像，所述第二像素化图像具有比所述第一分辨率更高的第二分辨率。

11.根据权利要求1所述的方法，其中将所述特征分类包括：在几何学上参数化所述特征和所述目标特征。

12.根据权利要求1所述的方法，还包括将所述目标特征的调整施用于经分类为视作与所述目标特征相同的所述特征的调整。

13.一种计算机程序产品，包括记录有指令的非暂时性计算机可读介质，所述指令在由计算机执行时实施根据权利要求1所述的方法。

14.一种用于器件制造工艺的计算机实施特征辨识方法，所述器件制造工艺涉及将设计布局的一部分加工至衬底上，所述方法包括：

获得目标特征；

通过将扰动施用于所述目标特征来从所述目标特征产生经扰动的目标特征；

产生训练样本集合，所述训练样本包括所述经扰动的目标特征和关于是否将所述经扰动的目标特征视作与所述目标特征相同的指示；

利用所述训练样本集合来训练学习模型；

通过计算机将所述设计布局的所述部分中的特征分类成至少两个类别：视作与所述目标特征相同、和视作与所述目标特征不同。

15.根据权利要求14所述的方法，其中将所述特征分类包括：将滑动窗中的所述第一像素化图像的一部分分类。